XIAMEN POWERWAY AVANZÓ CO. MATERIAL, LTD.

XIAMEN POWERWAY ADVANCED MATERIAL CO., LTD.

Manufacturer from China
Miembro activo
6 Años
Casa / Productos / InSb Wafer /

N mecanografía, la oblea de InSb, 2", grado de la prueba - fabricación de la oblea de semiconductor

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XIAMEN POWERWAY AVANZÓ CO. MATERIAL, LTD.
Ciudad:xiamen
Provincia / Estado:fujian
País/Región:china
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N mecanografía, la oblea de InSb, 2", grado de la prueba - fabricación de la oblea de semiconductor

Preguntar último precio
Lugar del origen :China
Cantidad de orden mínima :1-10,000pcs
Condiciones de pago :T/T
Capacidad de la fuente :10.000 obleas/mes
Plazo de expedición :5-50 días laborables
Detalles de empaquetado :Empaquetado en un ambiente del sitio limpio de la clase 100, en solo envase, bajo atmósfera del nitr
Nombre del producto :Oblea de InSb
Oblea Diamter :2 pulgadas
Tipo de la conducción :Tipo de N
Grado :Pruebe el grado
Grueso de la oblea :50.5±0.5m m
Palabra clave :oblea de InSb del solo cristal
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N mecanografía, la oblea de InSb, 2", grado de la prueba - fabricación de la oblea de semiconductor
 

PAM-XIAMEN proporciona crecimiento de la oblea de InSb del solo cristal (antimoniuro del indio) por el método encapsulado líquido de Czochralski (LEC). El antimoniuro del indio (InSb) se puede suministrar como obleas los finales del como-corte, grabado al agua fuerte o pulido y está disponible en una amplia gama de concentración de portador, el diámetro y thickness.PAM-XIAMEN pueden proporcionar la oblea lista de InSb del grado del epi para su uso epitaxial del MOCVD y del MBE.

 

Entre en contacto con por favor a nuestro equipo del ingeniero para más información de la oblea.

N mecanografía, la oblea de InSb, 2", grado de la prueba

Especificación de la oblea
ArtículoEspecificaciones
Diámetro de la oblea

 

2 ″ 50.5±0.5m m
 

Orientación cristalina

 

″ 2 (111) AorB±0.1°
 

Grueso

 

2 ″ 625±25um
 

Longitud plana primaria

 

2 ″ 16±2m m
 

Longitud plana secundaria

 

2 ″ 8±1m m
 

Final superficialP/E, P/P
PaqueteEnvase de la oblea o casete Epi-listo, solo de los CF

 

Eléctrico y dopando la especificación
Tipo de la conducciónn-tipon-tipon-tipon-tipo
DopanteSin impurificarTelurioTelurio bajoAlto telurio
Cm2s de EPD≤50
² V-1s-1 del cm de la movilidad≥4*105≥2.5*104≥2.5*105No especificado
Concentración de portador cm-35*1013-3*1014(1-7) *10174*1014-2*1015≥1*1018

 
Concentración de la estructura y de portador de banda de oblea de InSb

La concentración de la estructura y de portador de banda de oblea de InSb incluye parámetros básicos, temperatura, dependencias, la dependencia de la energía Gap de la presión hidrostática, masas eficaces, donantes y aceptadores

Parámetros básicos
Dependencias de la temperatura
Dependencia de la energía Gap de la presión hidrostática
Masas eficaces
Donantes y aceptadores

Parámetros básicos

Hueco de energía0,17 eV
Separación de la energía (EΓL) entre Γ y L valles0,51 eV
Separación de la energía (EΓX) entre los valles de Γ y de X0,83 eV
El partir vuelta-orbital de la energía0,80 eV
Concentración de portador intrínseco2·1016 cm-3
Resistencia intrínseca4·10-3 Ω·cm
Densidad eficaz de la banda de conducción de estados4,2·1016 cm-3
Densidad eficaz de la banda de la valencia de estados7,3·1018 cm-3

 

N mecanografía, la oblea de InSb, 2Concentración de la estructura y de portador de banda de InSb 300 K
Eg. = 0,17 eV
EL = 0,68 eV
EV de EX= 1,0
Eso = 0,8 eV

Dependencias de la temperatura

Dependencia de la temperatura del hueco de energía

Eg. = 0,24 - 6·10-4·T2/(T+500) (eV),
donde está temperaturas T los grados K (0 < T=""> 

Densidad eficaz de estados en la banda de conducción

Nc~ 8·1012·T3/2 (cm-3)

Densidad eficaz de estados en la banda de la valencia

Nn ~ 1,4·1015·T3/2 (cm-3).

Concentración de portador intrínseco

ni = (Nc·Nν) 1/2exp (- Eg/(2kbT))
Para 200K < T=""> 

N mecanografía, la oblea de InSb, 2Las dependencias de la temperatura de la concentración de portador intrínseco.
N mecanografía, la oblea de InSb, 2Nivel de Fermi contra la temperatura para diversas concentraciones de donantes y de aceptadores bajos.

Dependencias de la presión hidrostática

Eg. ≈Eg. (0) + 13,7·10-3P - 3,6·10-5P2 (eV)
EL≈EL (0) + 4,7·10-3P - 1,1·10-5P2 (eV)
EX≈EX (0) - 3,5·10-3P + 0,64·10-5P2 (eV),
donde está presión P en kbar.

Masas eficaces

Electrones: 
Para el Γ-vallemΓ = 0.0.14mo
No--parabolicity:
E (1+αE) = h2k2/(2mΓ)
α = 4,1 (eV-1)
En la masa eficaz del L-valle de la densidad de estadosmL=0.25mo

 

N mecanografía, la oblea de InSb, 2Masa eficaz del electrón contra la concentración del electrón
 

 

Agujeros:Mh = 0.43mo
PesadoMh = 0.43mo
Luzmlp = 0.015mo
Banda de la fractura-apagadomso = 0.19mo
Masa eficaz de la densidad de estadosmilivoltio = 0.43mo

Donantes y aceptadores

Energías de ionización de los donantes bajos ~0,0007 (eV):

SE, S, Te.

Energías de ionización de los aceptadores bajos (eV):

CdZnCrCu°Cu
0,010,010,070,0280,056

¿Usted está buscando un substrato de InSb?

PAM-XIAMEN es orgulloso ofrecer el substrato del fosfuro de indio para todos los diferentes tipos de proyectos. Si usted está buscando las obleas de InSb, envíenos la investigación hoy para aprender más sobre cómo podemos trabajar con usted para conseguirle las obleas de InSb que usted necesita para su proyecto siguiente. ¡Nuestro equipo del grupo está mirando adelante a proporcionar productos de calidad y el servicio excelente para usted!

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