XIAMEN POWERWAY AVANZÓ CO. MATERIAL, LTD.

XIAMEN POWERWAY ADVANCED MATERIAL CO., LTD.

Manufacturer from China
Miembro activo
6 Años
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Semiaislante, substrato del arseniuro de galio con CMP pulido, 4", grado primero

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XIAMEN POWERWAY AVANZÓ CO. MATERIAL, LTD.
Ciudad:xiamen
Provincia / Estado:fujian
País/Región:china
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Semiaislante, substrato del arseniuro de galio con CMP pulido, 4", grado primero

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Brand Name :PAM-XIAMEN
Place of Origin :China
MOQ :1-10,000pcs
Payment Terms :T/T
Supply Ability :10,000 wafers/month
Delivery Time :5-50 working days
Packaging Details :Packaged in a class 100 clean room environment, in single container, under a nitrogen atmosphere
product name :Gallium Arsenide Substrate
Wafer Diamter :4 inch
Thickness :350~675um
Grade :Prime Grade
usage :Microelectronics
keyword :Semi Insulating GaAs Wafer
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Semiaislante, substrato del arseniuro de galio, 4", grado primero

 

PAM-XIAMEN desarrolla y fabrica el cristal y la oblea del arseniuro del substrato-galio del semiconductor compuesto. Hemos utilizado tecnología avanzada del crecimiento cristalino, el helada vertical de la pendiente (VGF) y la tecnología de proceso de la oblea del arseniuro de galio (GaAs). Las propiedades eléctricas requeridas son obtenidas añadiendo dopantes tales como silicio o cinc. El resultado es n-tipo o p-tipo de alta resistencia (>10^7 ohm.cm) o semiconductores de la bajo-resistencia (<10 - 2 ohm.cm). Las superficies de la oblea están generalmente epi-listas (extremadamente - contaminación baja) es decir su calidad son convenientes para el uso directo en procesos epitaxiales.

 

Obleas del arseniuro de galio (GaAs), semiaislantes para los usos de la microelectrónica

Artículo Especificaciones Observaciones
Tipo de la conducción Aislamiento  
Método del crecimiento VGF  
Dopante Sin impurificar  
Oblea Diamter 4, pulgada Lingote disponible
Orientación cristalina (100) +/- 0.5°  
DE EJ, los E.E.U.U. o muesca  
Concentración de portador n/a  
Resistencia en el RT >1E7 Ohm.cm  
Movilidad >5000 cm2s/V.sec  
Densidad del hoyo de grabado de pistas <8000 /cm2  
Marca del laser a petición  
Final superficial P/P  
Grueso 350~675um  
Epitaxia lista  
Paquete Solo envase o casete de la oblea

 

Propiedades del cristal del GaAs

Propiedades GaAs
Atoms/cm3 4,42 x 1022
Peso atómico 144,63
Campo de la avería aproximadamente 4 x 105
Estructura cristalina Zincblende
Densidad (g/cm3) 5,32
Constante dieléctrica 13,1
Densidad eficaz de estados en la banda de conducción, Nc (cm-3) 4,7 x 1017
Densidad eficaz de los estados en la banda de la valencia, nanovoltio (cm-3) 7,0 x 1018
Afinidad de electrón (v) 4,07
Energía Gap en 300K (eV) 1,424
Concentración de portador intrínseco (cm-3) 1,79 x 106
Longitud de Debye intrínseca (micrones) 2250
Resistencia intrínseca (ohmio-cm) 108
Constante del enrejado (angstromes) 5,6533
Coeficiente linear de extensión termal, 6,86 x 10-6
ΔL/L/ΔT (1 DEG C)
Punto de fusión (DEG C) 1238
Curso de la vida del portador de minoría (s) aproximadamente 10-8
Movilidad (deriva) 8500
(cm2s de /V-s)
µn, electrones
Movilidad (deriva) 400
(cm2s de /V-s)
µp, agujeros
Energía óptica (eV) del fonón 0,035
Trayectoria libre mala del fonón (angstromes) 58
Calor específico 0,35
(J/g-deg C)
Conductividad termal en 300 K 0,46
(W/cm-degC)
Difusibilidad termal (cm2/sec) 0,24
Presión de vapor (Pa) 100 en 1050 DEG C;
1 en 900 DEG C

 

 
Longitud de onda Índice
(µm)
2,6 3,3239
2,8 3,3204
3 3,3169
3,2 3,3149
3,4 3,3129
3,6 3,3109
3,8 3,3089
4 3,3069
4,2 3,3057
4,4 3,3045
4,6 3,3034
4,8 3,3022
5 3,301
5,2 3,3001
5,4 3,2991
5,6 3,2982
5,8 3,2972
6 3,2963
6,2 3,2955
6,4 3,2947
6,6 3,2939
6,8 3,2931
7 3,2923
7,2 3,2914
7,4 3,2905
7,6 3,2896
7,8 3,2887
8 3,2878
8,2 3,2868
8,4 3,2859
8,6 3,2849
8,8 3,284
9 3,283
9,2 3,2818
9,4 3,2806
9,6 3,2794
9,8 3,2782
10 3,277
10,2 3,2761
10,4 3,2752
10,6 3,2743
10,8 3,2734
11 3,2725
11,2 3,2713
11,4 3,2701
11,6 3,269
11,8 3,2678
12 3,2666
12,2 3,2651
12,4 3,2635
12,6 3,262
12,8 3,2604
13 3,2589
13,2 3,2573
13,4 3,2557
13,6 3,2541
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