XIAMEN POWERWAY AVANZÓ CO. MATERIAL, LTD.

XIAMEN POWERWAY ADVANCED MATERIAL CO., LTD.

Manufacturer from China
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substrato libre de N-GaN GaN del avión (de 10-11) para Nonodevices

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Ciudad:xiamen
Provincia / Estado:fujian
País/Región:china
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substrato libre de N-GaN GaN del avión (de 10-11) para Nonodevices

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Lugar del origen :China
Cantidad de orden mínima :1-10,000pcs
Condiciones de pago :T/T
Capacidad de la fuente :10.000 obleas/mes
Plazo de expedición :5-50 días laborables
Detalles de empaquetado :Empaquetado en un ambiente del sitio limpio de la clase 100, en solo envase, bajo atmósfera del nitr
Elemento :PAM-FS-GAN (10-11) - N
Nombre del producto :Substrato libre de N-GaN GaN
Tipo de la conducción :Tipo de N
Dimensión :5 x 10 mm2
Espesor :350 ±25 μm los 430±25μm
El otro nombre :oblea gan
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substrato libre de N-GaN GaN del avión (de 10-11) para Nonodevices

 

PAM-XIAMEN ha establecido la tecnología de fabricación para (nitruro del galio) la oblea libre del substrato de GaN que está para UHB-LED y el LD. Crecido por la tecnología de (HVPE) de la epitaxia de la fase de vapor del hidruro, nuestro substrato de GaN tiene densidad baja del defecto y menos o densidad macra libre del defecto.

 

PAM-XIAMEN ofrece la gama completa de GaN y los materiales relacionados de III-N incluyendo los substratos de GaN de diversas orientaciones y conductividad eléctrica, las plantillas del crystallineGaN&AlN, y los epiwafers de encargo de III-N.

 

Aquí muestra la especificación de detalle:

substrato libre de N-GaN GaN del avión (de 10-11)

Artículo PAM-FS-GaN (10-11) - N
Dimensión 5 x 10 milímetros2
Grueso 350 ±25 µm del µm 430 ±25
Orientación

avión (de 10-11) del ángulo hacia Uno-AXIS 0 ±0.5°

avión (de 10-11) del ángulo hacia C-AXIS -1 ±0.2°

Tipo de la conducción N-tipo
Resistencia (300K) < 0="">
TTV µm del ≤ 10
ARCO -10 µm del ≤ 10 del ARCO del ≤ del µm
Aspereza superficial

Parte delantera: Ra<0>

Lado trasero: Tierra fina o pulido.

Densidad de dislocación A partir de la 1 de x 10 5 a 5 de x 10 6 cm-2
Densidad macra del defecto 0 cm2s
Área usable > el 90% (exclusión del borde)
Paquete cada uno en solo envase de la oblea, bajo atmósfera del nitrógeno, llena en sitio limpio de la clase 100

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Uso del substrato de GaN

 

Iluminación de estado sólido: Los dispositivos de GaN se utilizan como diodos electroluminosos del brillo ultra alto (LED), TV, automóviles, e iluminación general

 

Almacenamiento del DVD: Diodos láser azules

 

Dispositivo de poder: Los dispositivos de GaN se utilizan como diversos componentes en electrónica de poder de alta potencia y de alta frecuencia como estaciones base, satélites, amplificadores de potencia, e inversores/convertidores celulares para los vehículos eléctricos (EV) y los vehículos eléctricos híbridos (HEV). La sensibilidad baja de GaN a la radiación ionizante (como otros nitruros del grupo III) le hace un material conveniente para los usos spaceborne tales como órdenes de célula solar para los satélites y los dispositivos de alta potencia, de alta frecuencia para la comunicación, el tiempo, y los satélites de la vigilancia

Estaciones base inalámbricas: Transistores de poder del RF

Acceso de banda ancha inalámbrico: MMICs de alta frecuencia, RF-circuitos MMICs

Sensores de la presión: MEMS

Sensores del calor: detectores Piro-eléctricos

Condicionamiento de poder: Integración de las señales encontradas GaN/Si

Electrónica de automóvil: Electrónica da alta temperatura

Líneas de transmisión de poder: Electrónica de alto voltaje

Sensores del marco: Detectores ULTRAVIOLETA

Células solares: El hueco de la banda amplio de GaN cubre el espectro solar a partir de 0,65 eV al eV 3,4 (que es prácticamente el espectro solar entero), haciendo el nitruro del galio del indio

(InGaN) alea perfecto para crear el material de la célula solar. Debido a esta ventaja, las células solares de InGaN crecidas en los substratos de GaN se contrapesan para convertirse en una de las nuevas aplicaciones y del mercado más importantes del crecimiento para las obleas del substrato de GaN.

Ideal para los HEMTs, FETs

Proyecto del diodo de GaN Schottky: Aceptamos espec. de la aduana de los diodos de Schottky fabricados en las capas del nitruro del galio (GaN) de n y los p-tipos HVPE-crecidos, libres.

Ambos contactos (óhmicos y Schottky) fueron depositados en la superficie superior usando Al/Ti y Pd/Ti/Au.

 

 

INFORME oscilante de la Material-PRUEBA de las curvas-GaN de XRD

 

Un informe de prueba es necesario mostrar la conformidad entre la descripción de encargo y nuestros datos finales de las obleas. Probaremos el characerization de la oblea por el equipo antes del envío, probando la aspereza superficial por el microscopio atómico de la fuerza, el tipo por el instrumento romano de los espectros, la resistencia por el equipo de prueba sin contacto de resistencia, la densidad del micropipe por el microscopio de polarización, la orientación por la radiografía Orientator etc. si las obleas cumplen el requisito, nosotros limpiaremos y embalarlos en sitio limpio de 100 clases, si las obleas no hacen juego espec. de la aduana, la quitaremos.

 

El de ancho total de media altura (FWHM) es una expresión de la gama de funciones dadas por la diferencia entre dos valores extremos de la variable independiente igual a la mitad de su máximo. Es decir es la anchura de la curva espectral medida entre esos puntos en Y-AXIS, que es mitad de la amplitud máxima.

 

Abajo está un ejemplo de las curvas oscilantes de XRD del material de GaN:

 

substrato libre de N-GaN GaN del avión (de 10-11) para Nonodevices

Curvas oscilantes de XRD del material de GaN

 

Carro de la investigación 0