99,99% baja densidad del titanio del disco 4n de la pureza elevada del Ti del metal de la blanco pura de la farfulla
Temperatura alta compuesta natural de la blanco de la farfulla de la silicona fundida resistente
El níquel del NI 200 alea la aleación níquel-basada pura de la aleación de níquel de la blanco de la farfulla
Tubería de acero inoxidable DIN2462 para la blanco planar de la farfulla
Objetivo de pulverización catódica de lantano de alta constante dieléctrica para la fabricación de chips de memoria de semiconductores sin fugas
Disco objetivo de pulverización de titanio Ti Ti-Al Zr Cr para revestimiento PVD
Blancos redondos de aleación de titanio/blancos de pulverización catódica de titanio para recubrir
Objetivo de pulverización de metal de alta dureza Resistencia al desgaste WC Objetivo de carbono de tungsteno
W Objetivo de tungsteno Fusión de tierras raras Titanio Objetivo de pulverización de tungsteno
99.95% de tungsteno puro metales objetivo de pulverización W tungsteno objetivo anticorrosión
blanco rectangular/redonda del molibdeno puro 10.2g/Cm3 de la placa de la farfulla para la capa
Blanco redonda de la farfulla del tungsteno para la acción de capa de la ronda del tungsteno de la blanco del tungsteno del disco del tungsteno de la farfulla del magnetrón
El presionar isostático caliente del tungsteno de la aleación del tungsteno del tantalio de la blanco cuadrada de la farfulla
Blanco OD127*ID458*10 de la farfulla del Cr del magnetrón de Feiteng
Los sistemas de la deposición PLD del laser pulsado farfullan la blanco para los sistemas de la farfulla del magnetrón de DC RF
Blanco del molibdeno del tungsteno para el horno de sinterización del vacío
Blanco de la farfulla del tungsteno del tamaño de grano fino con la cadera/Cip/proceso de la fragua