Diana de pulverización catódica de plata metálica con alta conductividad eléctrica y térmica
Objetivo de pulverización de plata de titanio Gr5 Gr7 para pulverización de alta pureza en aplicaciones médicas Densidad 4,5 g/cm3
Objetivo de pulverización de itérbio como capa de cátodo OLED avanzada para pantallas más brillantes y duraderas
Objetivos de pulverización plana de molibdeno
Disco objetivo de pulverización de titanio Ti Ti-Al Zr Cr para revestimiento PVD
Temperatura alta compuesta natural de la blanco de la farfulla de la silicona fundida resistente
Sistema de la farfulla de Mangetron de la plata del AG, máquina de capa de la farfulla de la plata PVD AG
99.95% de tungsteno puro metales objetivo de pulverización W tungsteno objetivo anticorrosión
Tubería de acero inoxidable DIN2462 para la blanco planar de la farfulla
El níquel del NI 200 alea la aleación níquel-basada pura de la aleación de níquel de la blanco de la farfulla
99,99% baja densidad del titanio del disco 4n de la pureza elevada del Ti del metal de la blanco pura de la farfulla
blanco rectangular/redonda del molibdeno puro 10.2g/Cm3 de la placa de la farfulla para la capa
Blanco OD127*ID458*10 de la farfulla del Cr del magnetrón de Feiteng
Los sistemas de la deposición PLD del laser pulsado farfullan la blanco para los sistemas de la farfulla del magnetrón de DC RF
Blanco redonda de la farfulla del molibdeno de los productos del molibdeno para el disco de capa del molibdeno de la blanco del molibdeno de la farfulla del vacío
El metal del W-Ti que farfulla apunta el billete planar para el depósito físico del vapor del semiconductor