Blanco de pulverización de oro Au 99,99% de pureza con conductividad extremadamente alta
Objetivos de pulverización plana de molibdeno
El níquel del NI 200 alea la aleación níquel-basada pura de la aleación de níquel de la blanco de la farfulla
Tubería de acero inoxidable DIN2462 para la blanco planar de la farfulla
99.95% de tungsteno puro metales objetivo de pulverización W tungsteno objetivo anticorrosión
Slide de vidrio Au Gold Sistema de pulverización de Mangetron, PVD Máquina de recubrimiento de pulverización de Au Gold con certificación CE
99,99% baja densidad del titanio del disco 4n de la pureza elevada del Ti del metal de la blanco pura de la farfulla
Objetivo de pulverización catódica de lantano de alta constante dieléctrica para la fabricación de chips de memoria de semiconductores sin fugas
99,6% hardware de la blanco de la farfulla del titanio de la ronda de la pureza GR1 GR2
Temperatura alta compuesta natural de la blanco de la farfulla de la silicona fundida resistente
Disco objetivo de pulverización de titanio Ti Ti-Al Zr Cr para revestimiento PVD
Blanco OD127*ID458*10 de la farfulla del Cr del magnetrón de Feiteng
99,8% las blancos de la farfulla Ti70Al30 limpian técnicas con la aspiradora de fusión
El presionar isostático caliente del tungsteno de la aleación del tungsteno del tantalio de la blanco cuadrada de la farfulla
Blanco redonda de la farfulla del molibdeno de los productos del molibdeno para el disco de capa del molibdeno de la blanco del molibdeno de la farfulla del vacío
blanco rectangular/redonda del molibdeno puro 10.2g/Cm3 de la placa de la farfulla para la capa
Los sistemas de la deposición PLD del laser pulsado farfullan la blanco para los sistemas de la farfulla del magnetrón de DC RF