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el zafiro de 2inch 4iinch 6Inch basó la película de AlN de las plantillas de AlN en el substrato del zafiro
2inch en la oblea de la capa de la plantilla de AlN del substrato del zafiro para los dispositivos de 5G BAW
La otra especificación del relaterd 4INCH GaN Template
Substratos del ₃ del ₂ O del Al de GaN/(4") 4inch | |||
Artículo | Sin impurificar | N-tipo |
Alto-dopado N-tipo |
Tamaño (milímetros) | Φ100.0±0.5 (4") | ||
Estructura del substrato | GaN en el zafiro (0001) | ||
SurfaceFinished | (Estándar: Opción del SSP: DSP) | ||
Grueso (μm) | 4.5±0.5; 20±2; Modificado para requisitos particulares | ||
Tipo de la conducción | Sin impurificar | N-tipo | N-tipo Alto-dopado |
Resistencia (Ω·cm) (300K) | ≤0.5 | ≤0.05 | ≤0.01 |
GaN Thickness Uniformity |
el ≤±10% (4") | ||
Densidad de dislocación (cm2s) |
≤5×108 | ||
Superficie usable | el >90% | ||
Paquete | Empaquetado en un ambiente del sitio limpio de la clase 100. |
Estructura cristalina |
Wurzita |
Constante del enrejado (Å) | a=3.112, c=4.982 |
Tipo de la banda de conducción | Bandgap directo |
Densidad (g/cm3) | 3,23 |
Microdureza superficial (prueba de Knoop) | 800 |
Punto de fusión (℃) | 2750 (barra 10-100 en N2) |
Conductividad termal (W/m·K) | 320 |
Energía del hueco de banda (eV) | 6,28 |
Movilidad de electrón (V·s/cm2) | 1100 |
Campo eléctrico de la avería (MV/cm) | 11,7 |