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Ciudad:
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País/Región:
china
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Equipo de capa óptico
Máquina de deposición por pulverización catódica de magnetrón PVD para equipos de recubrimiento óptico de películas dieléctricas
El dieléctrico filma la deposición de capa óptica de la farfulla del magnetrón del O2 PVD del N2 de AR del equipo Usos Usos Propósi
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Equipo de recubrimiento óptico AIN PVD de óxido de metal con película metálica Máquina de pulverización por depósito de vapor físico
Deposición de la farfulla del magnetrón de PVD Usos Usos Propósito específico Tipo material Semiconductor IC,
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Tamaño óptico 200×200m m de la capa del equipo de la capa de ALD Al2O3
Deposición atómica de la capa de ALD Usos Usos Propósito específico Tipo del material de ALD Dispositivos de MEM
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Máquina de recubrimiento de deposición de vapor físico por pulverización catódica de magnetrón de películas dieléctricas
El dieléctrico filma la deposición de capa óptica de la farfulla del magnetrón del O2 PVD del N2 de AR del equipo Usos Usos Pro
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Equipo de deposición ALD de recubrimiento óptico TiO2 Al2O3 ISO
Deposición de capa atómica ALD Aplicaciones Aplicaciones Propósito específico Tipo de material ALD
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Trimetilaluminio AL2O3 TiO2 ZnO ALD Máquina de recubrimiento por deposición de capa atómica
Deposición atómica de la capa de ALD Usos Usos Propósito específico Tipo del material de ALD Dispositivos de MEM
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Películas dieléctricas Equipo de recubrimiento óptico Ar N2 O2 PVD Magnetrón Deposición por pulverización catódica
Deposición de la farfulla del magnetrón de PVD Usos Usos Propósito específico Tipo material Semiconductor IC,
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Equipo óptico ISO de la capa de la deposición atómica de la capa de TiO2 Al2O3 ALD
Deposición de capa atómica ALD Aplicaciones Aplicaciones Propósito específico Tipo de material A
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equipo óptico de gama alta Uno mismo-desarrollado de la capa con 1200mm*500m m (modificado para requisitos particulares)
equipo óptico de gama alta Uno mismo-desarrollado de la capa con 1200mm*500m m (modificado para requisitos particulares) Principio de funcion
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