equipo óptico de gama alta Uno mismo-desarrollado de la capa con 1200mm*500m m (modificado para requisitos particulares)
Principio de funcionamiento
La deposición de Atomiclayer (ALD) es un método por el cual una sustancia se puede depositar en una capa del substrato por capa bajo la forma de sola película atómica.
Parámetro de la especificación
| modelo |
ALD1200-500 |
| Sistema de capa de la película |
AL2O3, TiO2, ZnO y etc. |
| Gama de temperaturas de capa |
Temperature-500℃ normal |
| Dimensiones de capa de la cámara de vacío |
Diámetro interno 1200m m, altura 500m m (adaptable) |
| Estructura de la cámara de vacío |
Modificado para requisitos particulares según necesidades del cliente |
| Vacío del fondo |
<5x10>-7mbar |
| Grueso de capa |
≥0.15nm |
| Exactitud de control del grueso |
±0.Inm |
Área de aplicación
| Dispositivo de MEMS |
| Placa electroluminiscente |
| exhibición |
| Material del almacenamiento |
| Acoplamiento inductivo |
| Batería de la película fina de la perovskita |
| empaquetado 3D |
| Uso de la luminiscencia |
| sensor |
| Batería de la carpa |
Ventajas de la tecnología de ALD
①El precursor es la absorción química saturada, que asegura la formación de una película uniforme de la área extensa.
②Los nanosheets de varios componentes y los óxidos mezclados pueden ser depositados.
③La uniformidad inherente de la deposición, escalamiento fácil, se puede aumentar proporcionalmente directamente.
④Puede ser aplicado extensamente a las diversas formas de la base.
