Descripción del objetivo de pulverización de aleación de titanio PVD
La tecnología de revestimiento PVD convierte físicamente un material de estado sólido a estado gaseoso, que luego se deposita en un sustrato objetivo para formar una película delgada.Las propiedades del material objetivo afectan directamente a la calidadEl objetivo de pulverización de aleación de titanio PVD El objetivo está hecho de materiales de aleación de titanio de alta calidad (como el aluminio de titanio).,Puede proporcionar una alta pureza, estabilidad química y excelentes propiedades mecánicas de películas conductoras o reflectantes.El objetivo de pulverización de aleación de titanio PVD tiene una alta resistencia específica, excelente resistencia a la corrosión y a la oxidación, resistencia a altas temperaturas, resistencia al desgaste, buena biocompatibilidad, alta calidad del recubrimiento y excelentes características.Es ampliamente utilizado en dispositivos de semiconductores, revestimientos duros y antincorrosivos (mejorar la dureza de la herramienta y la vida útil), revestimientos decorativos (tratamiento de superficie de varios colores y brillo).
Las especificaciones de los objetivos de pulverización de aleación de titanio PVD:
| Grado |
Gr4, Gr5, Gr7, Gr12, Gr23 |
| Técnica |
Las condiciones de producción de las materias primas y de las materias primas se determinan por las características de las materias primas y de las materias primas. |
| Purificación |
≥ 99,95% |
| Diámetro |
El valor de las emisiones |
| El grosor |
10 a 50 mm |
| Densidad |
4.52 g/cm3 |
| Superficie |
Polish, brillante, moliendo |
| Estándar |
Las condiciones de ensayo de las pruebas de ensayo se determinarán en función de las condiciones de ensayo de las pruebas. |
| Tiempo de entrega |
25 días |
| Certificación |
Se trata de una norma ISO 9001 |
Imagen objetivo de pulverización de aleación de titanio PVD
