JINXING MATECH CO LTD
ENCANTAR MATECH es proveedor experto en la solución del metal. Especialmente en los productos tales como cobre de la aleación del tungsteno, del tungsteno, blanco del titanio, del circonio, del
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Ion Implanting Molybdenum Products es una tecnología del haz de ion que ioniza los átomos de un elemento en los iones, los acelera en un voltaje de diez a los centenares de kilovoltio, y lo inyecta en la superficie del material del objeto puesta en cámara de la blanco del vacío después de obtener velocidad.
Después de la implantación de ion, las propiedades de la comprobación, químicas y mecánicas de la superficie del material cambiarán perceptiblemente. La resistencia de desgaste continua de la superficie de metal puede alcanzar 2 ~ 3 órdenes de magnitud de la profundidad inicial de la implantación.
ESPECIFICACIÓN Y COMPOSICIONES QUÍMICAS (NOMINALES)
| Material | Tipo | Composición química (por peso) |
| Moly puro | Mo1 | >99.95%min. MES |
| Aleación Ti-Zr-MES | TZM | Zr/0,01 - el 0,04% C del Ti/el 0,08% del 0,5% |
| MES-Hf-c | MHC | Hf/0,05 - el 0,12% C del 1,2% |
| Renio de Moly | Más | El 5,0% re |
| Tungsteno de Moly | MoW20 | El 20,0% W |
| Tungsteno de Moly | MoW505 | El 0,0% W |
(1) es una tecnología no contaminante pura del tratamiento superficial;
(2) no necesita la activación termal y el ambiente de alta temperatura, así que no cambiará la dimensión total y el final superficial del objeto;
(3) la capa de la implantación de ion es una nueva capa superficial formada por una serie de interacciones físicas y químicas entre el haz de ion y la superficie del substrato, y no hay problema de peladura entre él y el substrato;
(4) allí no es ninguna necesidad de trabajar a máquina y del tratamiento térmico después de implantación de ion.
En tecnología de semiconductor, la implantación de ion tiene uniformidad y repetibilidad de alta precisión de la dosis. Puede obtener la concentración y la integración de doping ideales, para mejorar grandemente la vida de la integración, de la velocidad, de la producción y de servicio del circuito, y reduce el consumo del coste y de energía. Esto es diferente de la deposición de vapor químico.
Para obtener parámetros ideales, tales como espesor del film y densidad, la deposición de vapor químico necesita ajustar el equipo que fija parámetros, tales como temperatura y flujo de aire, que es un proceso complejo.
Además de la industria de la producción del semiconductor, con el desarrollo rápido de la automatización de control industrial, la tecnología de la implantación de ion es también ampliamente utilizada en la mejora de metales, de la cerámica, del vidrio, de compuestos, de polímeros, de minerales y de semillas de la planta.