Malla de ánodo de titanio expandida chapada en platino para la producción de hidrógeno
Malla de ánodo de titanio chapada en platino
Recubrimiento de larga duración
Utilizando tecnología de vanguardia, la base de titanio se lleva a una alta temperatura (≥1200°C) en un horno de sinterización al vacío, lo que garantiza la adhesión total del recubrimiento. La tasa de consumo del recubrimiento es extremadamente baja y uniforme, medida en miligramos por amperio-año.
Material de sustrato de calidad
Nuestros electrodos están fabricados con titanio de alta resistencia, que cumple con los estándares comerciales de Grado I/II.
| Elemento |
Grado I |
Grado II |
| Hierro (Fe) |
0.20% máx. |
0.30% máx. |
| Carbono (C) |
0.08% máx. |
0.08% máx. |
| Nitrógeno (N) |
0.03% máx. |
0.03% máx. |
| Hidrógeno (H) |
0.015% máx. |
0.015% máx. |
| Oxígeno (O) |
0.18% máx. |
0.25% máx. |
| Titanio (Ti) |
Resto |
Resto |
Parámetros de la malla de ánodo de titanio
La malla de ánodo de titanio se fabrica mediante el punzonado y estiramiento de una lámina de titanio. La abertura de la malla es de diamante o hexagonal.
Especificaciones de la malla:
Espesor: 0.05-5mm
Ancho: 10mm-2000mm
Abertura: 0.3×0.6mm, 0.5×1mm, 0.8×1.6mm, 1×2mm, 1.25×2.5mm, 1.5×3mm, 2×3mm, 2×4mm, 2.5×5mm, 3×6mm, etc. (Máximo 50×100mm)
| Parámetros técnicos |
Rendimiento |
| Composición del recubrimiento |
Platino (Pt) |
| Espesor del recubrimiento |
1~5 µm |
| Voltaje de funcionamiento |
≤ 24V |
| Densidad de corriente |
≤7500 A/m² |
| Rango de pH |
1~12 |
| Temperatura de trabajo |
< 60°C |
Aplicaciones de la malla de ánodo de titanio chapada en platino
- Electrólisis de agua potable
- Generador HHO
- Electrodeposición
- Síntesis orgánica electrolítica
- Electrodiálisis
- Desinfectante para piscinas
- Protección contra perclorato
- Protección catódica
- Industria cloro-álcali
