Chongqing Newsin Technology Co., Ltd

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Manufacturer from China
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10 Años
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Gránulo 0.5-3m m, 1-3m m, 2-4m m, 3~5m m del dióxido de silicio; Φ2x2mm; Φ3x3mm; Φ25 o tamaño del requisito de cliente (gránulo SiO2)

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Chongqing Newsin Technology Co., Ltd
Ciudad:chongqing
Provincia / Estado:chongqing
País/Región:china
Persona de contacto:MrLin Yue
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Gránulo 0.5-3m m, 1-3m m, 2-4m m, 3~5m m del dióxido de silicio; Φ2x2mm; Φ3x3mm; Φ25 o tamaño del requisito de cliente (gránulo SiO2)

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Nombre de la marca :TK NANO
Precio :USD5/kg
Número de modelo :0.5-3M M
Lugar del origen :China
Cantidad de orden mínima :25kgs
Condiciones de pago :T/T
Capacidad de la fuente :400kgs por día
Plazo de expedición :10days
Detalles de empaquetado :25kgs por el cubo
color :gránulo descolorido
tamaño :0.5-3m m
Gránulo SiO2 :99,99%
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Gránulo SiO2

0.5-3m m

1-3m m

2-4m m

 

o arreglo para requisitos particulares

 

99,99%

 

Gránulo 0.5-3m m, 1-3m m, 2-4m m, 3~5m m del dióxido de silicio;  Φ2x2mm; Φ3x3mm;   Φ25 o tamaño del requisito de cliente (gránulo SiO2)

 

 

Nombre químico: SiO2
Punto de ebullición: 2230℃
Pureza: 4N
Especificación: 1-4m m, partícula, blanco
Peso molecular: 60,08
Aspecto: blanco
Punto de fusión: 1700℃
Densidad: 2.2-2.7g/cm3
En la evaporación del vacío 10-4Torr la temperatura es: 1025℃
Área transparente /nm: 200-8000
Constante dieléctrica relativa: 3-4
¿Voltaje de avería /V? Cm-1: 106
Grueso: los 0.03-0.3μm
Tecnología de la deposición: farfulla reactiva
Índice de refracción (longitud de onda /nm): 1,46 (500); 1,445 (1600)
-1:5.5 linear del coeficiente/C de la extensión * 10-7
Modo de la evaporación: haz electrónico

Funcionamiento: la evaporación disponible de la calefacción del barco del tantalio, también puede utilizar la evaporación de la calefacción del crisol del óxido de aluminio tres dos, pero por la calefacción de resistencia la evaporación producirá por la descomposición, evaporación del haz electrónico, el efecto es muy buena; insoluble en agua y ácido, pero solubilidad en ácido hidrofluórico; las partículas pueden actuar con el álcali fundido;

Uso: la silicona es ampliamente utilizada, principalmente para la película de la luz fría, las películas de antireflejos, película de múltiples capas, filtro, película del aislamiento, película de vidrios, película ULTRAVIOLETA etc….

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