Microscopio metalúrgico de XJP-158J
El microscopio metalúrgico de XJP-158J se desarrolla y tuvo como objetivo la industria del semiconductor, fabricación de la oblea, industria de la información electrónica, industria metalúrgica, usada como microscopio metalúrgico avanzado, el usuario puede experimentar su funcionamiento estupendo al usarlo. Puede ser ampliamente utilizado identificar y analizar el semiconductor, FPD, encapsulación del circuito, substrato del circuito, material, lanzamiento/metal/piezas de cerámica, moldes de la precisión. Este instrumento adopta ambos que reflejan y la iluminación transmitida, el campo de Bright&Dark, DIC y la observación polarizante
puede proceder bajo iluminación el reflejo, y la observación brillante del campo se hace bajo luz transmitida. El sistema óptico de alta calidad y confiable trae mucho más claro y imagen más nítida. El diseño cubre con las necesidades ergonómicas y hace que usted siente cómodo y relajado en hacer su trabajo
Características y descripción
1. Adopte la distancia de alta resolución, larga de UIS de funcionamiento, y la trayectoria ligera del infinito
corrección de la tecnología de la imagen del objetivo del sistema
2. Ampliar la tecnología de la multiplexación del infinito objetivo, compatible
objetivo con todos los métodos de observación, incluyendo campo del bright&dark
la observación, la polarización y DIC también proporcionan arriba claro y agudo
imagen en cada método de observación.
3. Iluminación superficial asférica de Kohler, aumentando el brillo de la visión.
4. Ocular ancho estupendo del campo de la visión de WF10× (Φ25), distancia de funcionamiento larga
objetivo metalúrgico con el campo brillante y oscuro
5. La visera del yelmo se puede equipar de interferencia desmontable del diferencial de DIC
dispositivo.
| Especificación |
| Cabeza de la visión |
Cabeza libre de Trinocular de la remuneración, 30° inclinado (50mm-75m m) |
| Ocular |
WF10×/25mm |
| WF10×/20mm, retículo con el retículo 0.1m m |
| Objetivo |
Objetivos largos del campo Infinity.Plan del bright&dark de la distancia de funcionamiento:
5×/0.1B.D/W.D.29.4m m, 10×/0.25B.D/W.D.16m m,
20×/0.40B.D/W.D.10.6m m, 40×/0.60B.D/W.D.5.4m m,
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| Visera del yelmo |
Con la visera del yelmo cuádruple de DIC Jack |
| Etapa |
Etapa mecánica de la capa doble |
| Tamaño de la etapa: 189mm×160m m |
| Gama móvil: 80mm×50m m |
| Filtro |
Tipo filtros (verde de Flashboard, azul, neutral) |
| Condensador |
Condensador de Abbe N.A.1.25 con el diafragma y el filtro de iris |
| Concentración |
Ajuste de concentración del &fine grueso coaxial con el mecanismo de estante y del piñón. Muy bien
valor de escala de concentración 0.002m m
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| Fuente de luz |
Iluminación de la transmisión: Bulbo de halógeno 12V/50W, AC85V-230V, brillo ajustable |
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Epi-iluminación: Con el diafragma de iris de la abertura y el diafragma de iris del campo, halógeno
Bulbo 12V/50W, AC85V-230V, brillo ajustable
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| Dispositivo polarizante |
El analizador 360°rotatable, polarizador y analizador se puede mover de la trayectoria ligera |
| Comprobación de la herramienta |
micrómetro de 0.01m m |
| Accesorio opcional |
Software bidimensional de la medida |
| Software de análisis metalúrgico profesional de imagen |
| Epi-iluminación: Bulbo de halógeno 12V/100W, AC85V-230V, brillo ajustable |
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Campo brillante y oscuro Planobjectives infinito de la distancia de funcionamiento larga:
50×/0.55B.D/W.D.5.1m m, 80×/0.75B.D/W.D.4m m, 100×/0.80B.D/W.D.3m m
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| ocular de micrómetro |
| 1.3Mega, 2,0 mega, 3,0 mega, 5,0 oculares mega de la cámara digital de los pixeles Cmos |
| Adaptador 0.5×, 0.57×, 0.75× del CCD del attachmentand de la fotografía |
| DIC (10×, 20×, 40×, 100×) |
| Herramienta que aplana |
| La cámara CCD, colorea líneas de televisión de 1/3 alta resolución 520 del ″ |
