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El objetivo de pulverización de metal se une con indio, lo que resulta en un enlace fuerte y duradero.que son esenciales para la producción de películas finas de alta calidadEl objetivo tiene una pureza del 99,99%, lo que garantiza que las películas producidas sean de la más alta calidad.
El objetivo de pulverización de metales es compatible con una amplia gama de sustratos y se puede personalizar para satisfacer los requisitos específicos de su aplicación.Esto hace que sea una opción ideal para una variedad de aplicaciones, incluida la deposición de películas delgadas sobre vigas I de acero al carbono, vigas H de acero y otros sustratos.
El objetivo de pulverización de metal tiene una densidad personalizada, lo que permite lograr una excelente adhesión y calidad de película.que reduce la necesidad de reemplazos y mantenimiento frecuentes.
Ya sea que trabaje en la industria de semiconductores, la industria de películas finas, o cualquier otra industria que requiera objetivos de pulverización de alta calidad, nuestro objetivo de pulverización de metal es la elección perfecta.Es un sistema fiable., producto duradero y eficiente que le ayudará a alcanzar sus objetivos de producción y satisfacer las necesidades de sus clientes.
Utilice el producto Metale Sputtering Target para aplicaciones tales como:
Parámetro técnico | Valor |
---|---|
El material | Acero de aleación |
El grosor | 10-600 mm |
Densidad | Personalizado |
Purificación | 99.99% |
Configuración del objetivo | Solo o múltiple |
Estructura de cristal | Personalizado |
La rugosidad de la superficie | Ra < 0,8 Um |
Forma de las piezas | En redondo |
Enlace con el objetivo | El indio |
Técnica | Forjadas y mecanizadas por CNC |
Superficie | Polido y anodizado |
El objetivo de pulverización de metal es compatible con una amplia gama de sustratos, incluida la viga de acero al carbono I, el metal de acero aleado y otros materiales similares.Esto lo convierte en un producto versátil que se puede utilizar en una variedad de aplicaciones industrialesTiene un nivel de pureza del 99,99%, lo que garantiza que las películas finas producidas sean de alta calidad y tengan propiedades consistentes.
El objetivo de pulverización de metal está unido con indio, lo que garantiza una fuerte adhesión al sustrato durante el proceso de pulverización.Esto lo convierte en un producto ideal para su uso en aplicaciones donde se requiere un proceso de deposición confiable y estable.
El objetivo de pulverización de metal se utiliza ampliamente en la industria de semiconductores para la producción de películas finas en obleas de silicio. También se utiliza en la producción de células solares, pantallas planas,y otros dispositivos electrónicosAdemás, se utiliza en la industria aeroespacial para la producción de materiales avanzados que se utilizan en componentes de aviones.
El objetivo de pulverización de metal también se puede utilizar en la industria médica para la producción de películas delgadas que se utilizan en dispositivos médicos.También se utiliza en la industria automotriz para la producción de recubrimientos que protegen la superficie de las piezas automotrices de la corrosión y el desgaste.
En resumen, el objetivo de pulverización de metal es un producto muy versátil que se puede utilizar en una amplia gama de aplicaciones industriales.compatibilidad del sustrato, alto nivel de pureza y unión de indio lo convierten en un producto ideal para su uso en las industrias de semiconductores, aeroespacial, médica y automotriz.
Nuestro objetivo de pulverización de metal se puede personalizar para satisfacer sus necesidades específicas.
Además, ofrecemos servicios de impresión 3D de polvo de metal, transportador industrial de detectores de metales y transportador de máquinas de detectores de metales para personalizar aún más su producto.
El soporte técnico y los servicios del producto Metal Sputtering Target incluyen: