Oblea pulida lado del doble del zafiro 2inch del grueso 430um 0.1m m 0.2m m
Descripción
Las ventanas ópticas del zafiro son ideales para los usos donde están una consideración la alta presión, el vacío, o las atmósferas corrosivas. El zafiro, una sola forma cristalina de Al2O3, es resistente atacar por los ácidos fuertes debido a su alta constante dieléctrica. Tiene alta fuerza compresiva y un punto de fusión elevada. Es también resistente a la radiación ULTRAVIOLETA que oscurece.
Especificación
| Crystal Orientation |
miscut del C-avión (0001) a M |
| Mis-orientación hacia marca del laser |
0.3° del ± 0.1° del eje hacia el avión de M (el 90° lejos de plano importante asumió para ser cortado a lo largo de un uno-avión) lejos de las 102) direcciones de r ( |
| Orientación del Mis hacia plano primario |
0° ± 0.1° |
| Diámetro de la oblea |
50.8± 0.05m m |
| Grueso |
430± 20m m |
| Major Flat |
± 1.0m m de 16.0m m |
| Major Flat Location |
± 0.3° de Uno-AXIS |
| Front Surface |
Epi polaco< 0="">
|
| Aspereza de la parte trasera |
<1micron |
| TTV |
£ 10m m |
| Deformación |
£ 10m m |
| Arco |
£ 10m m |
| Condición del borde |
Defecto de borde para no exceder SEMI M3-91, cuadro 2 |
| Marca del laser del substrato |
La parte trasera estándar, es paralelo a al plano |
| Empaquetado |
Ambiente del sitio limpio de la clase 100, en casetes de 25, bajo atmósfera del nitrógeno |
2 el lado del doble de la pulgada DSP pulió los substratos del zafiro se puede fabricar de los cristales de zafiro crecidos Kyropoulos ópticos de alta calidad del grado.
el solo substrato epitaxial cristalino del zafiro de la pureza elevada es conveniente para el proceso epitaxial directo, el proceso de PSS, el proceso de ALN y otros métodos epitaxiales. Tiene las características de la longitud de onda uniforme, alto brillo y pequeño estándar podemos aceptar el arreglo para requisitos particulares del producto para las especificaciones técnicas, y producimos los substratos de pulido solos/dobles del zafiro con diversas dimensiones externas basadas en C (0001), a (11-20) y orientaciones cristalinas de m (1100), con la muesca o las orientaciones cristalinas del borde recto.
Flujo de proceso
