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Máquina de recubrimiento por pulverización catódica DC y MF Magnetron Soluciones de recubrimiento PVD en negro profundo

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País/Región:china
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Máquina de recubrimiento por pulverización catódica DC y MF Magnetron Soluciones de recubrimiento PVD en negro profundo

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Número de modelo :RTAS1250
Lugar del origen :Hecho en China
Cantidad de orden mínima :1 set
Condiciones de pago :CARTA DE CRÉDITO, D/A, D/P, T/T
Capacidad de la fuente :2 sistemas por mes
Plazo de expedición :24 semanas
Detalles de empaquetado :Exporte el estándar, para ser embalado en los nuevos casos/los cartones, convenientes para el océano
Tecnología de recubrimiento :Farfullando, evaporación, plasma Treater
Características del equipo :Estructura robusta, diseño compacto, alta eficiencia y control de operación de precisión
Uso de capa :Papel electrónico, ITO Film, circuitos flexibles, tiras fotovoltaicas, médicas y RFID.
control de operaciones :Control intuitivo de PLC e IPC
Servicio y Capacitación :Disponible, de los ingenieros y técnicos de EE. UU.
Nombre :máquina de capa de la película fina
Localización de la fábrica :Ciudad de Shanghái, China
Servicio Mundial :Polonia - Europa; Irán- Asia occidental y Medio Oriente, Turquía, India, México- América del Sur
Servicio de Formación :Operación de la máquina, mantenimiento, proceso de recubrimiento Recetas, programa
Garantía :Garantía limitada 1 año gratis, toda la vida de la máquina
OEM y ODM :disponible, apoyamos el diseño y la fabricación a medida
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Máquina de recubrimiento por pulverización catódica DC y MF, soluciones de recubrimiento PVD negro profundo

Revestimiento de pulverización catódica de magnetrón

recubrimiento de plasma
La pulverización catódica con magnetrón es un proceso de recubrimiento de plasma mediante el cual el material pulverizado se expulsa debido al bombardeo de iones a la superficie objetivo.La cámara de vacío de la máquina de recubrimiento por PVD se llena con un gas inerte, como el argón.Al aplicar un alto voltaje, se crea una descarga luminiscente, lo que resulta en la aceleración de los iones hacia la superficie del objetivo y un recubrimiento de plasma.Los iones de argón expulsarán materiales de pulverización catódica de la superficie objetivo (pulverización catódica), lo que dará como resultado una capa de recubrimiento pulverizada sobre los productos frente al objetivo.
La tecnología de pulverización catódica con magnetrones se caracteriza por:

  • Un objetivo enfriado por agua, por lo que se genera poco calor de radiación
  • Casi cualquier material objetivo metálico se puede pulverizar sin descomposición
  • Los materiales no conductores se pueden pulverizar usando radiofrecuencia (RF)
    o potencia de frecuencia media (MF)
  • Los recubrimientos de óxido se pueden pulverizar (pulverización reactiva)
  • Excelente uniformidad de capa
  • Recubrimientos pulverizados muy suaves (sin gotas)
  • Los cátodos (de hasta 2 metros de largo) se pueden colocar en cualquier posición, por lo tanto a gran altura
    flexibilidad del diseño de equipos de pulverización catódica
MODELO RTAC1250-SPMF
TECNOLOGÍA Sputtering de magnetrón MF + Recubrimiento iónico
MATERIAL Acero inoxidable (S304)
TAMAÑO DE LA CÁMARA Φ1250 * H1250mm
TIPO DE CÁMARA Cilindro, vertical, 1 puerta
SISTEMA DE SPUTTER Diseño exclusivo para deposición de película negra delgada
MATERIAL DE DEPÓSITO Aluminio, plata, cobre, cromo, acero inoxidable,
Níquel
FUENTE DE DEPÓSITO 2 juegos de objetivos de pulverización cilíndrica MF + 8 fuentes de arco catódico dirigidas + fuente de iones para opcional
GAS MFC- 4 vías, Ar, N2, O2, C2H2
CONTROL PLC (controlador lógico programable) +
SISTEMA DE BOMBA SV300B - 1 juego (Leybold)
WAU1001 - 1 juego (Leybold)
D60T-1 juego (Leybold)
Bombas turbomoleculares: 2* F-400/3500
PRETRATAMIENTO Fuente de alimentación polarizada: 1*36 KW
SISTEMA DE SEGURIDAD Numerosos enclavamientos de seguridad para proteger a los operadores
ENFRIAMIENTO Agua fría
ENERGÍA ELÉCTRICA 480 V/3 fases/60 HZ (compatible con EE. UU.)
460 V/3 fases/50 Hz (compatible con Asia)
380V/3 fases/50HZ (Cumple EU-CE)
HUELLA L3000*W3000*H2000mm
PESO TOTAL 7,0 toneladas
HUELLA (L*An*Al) 5000*4000 *4000 MM
TIEMPO DEL CICLO 30~40 minutos (dependiendo del material del sustrato,
geometría del sustrato y condiciones ambientales)
POTENCIA MÁX.. 155 kilovatios
ENERGÍA PROMEDIO
CONSUMO (APROX.)
75 kilovatios

Comuníquese con nosotros para obtener más especificaciones, Royal Technology tiene el honor de brindarle soluciones de recubrimiento total.

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