Sistema de la deposición de la farfulla del tantalio del carbono de DLC-C TA

La pulverización magnética se utiliza ampliamente para depositar metales refractarios como el tántalo, el titanio, el tungsteno,Niobio, que requeriría temperaturas de deposición muy altas, y metales preciosos: oro y plata y que también se utiliza para la deposición de metales de puntos de fusión más bajos como cobre, aluminio, níquel, cromo, etc.

El tántalo es el más utilizado en la electrónicaindustriacomo recubrimiento protector debido a su buena resistencia a la erosión.

Aplicaciones de la película delgada de tántalo pulverizado:
1- industria de la microelectrónica, ya que las películas pueden ser pulverizadas reactivamente y, por lo tanto, la resistividad y el coeficiente de temperatura de la resistencia se pueden controlar;

2. Instrumentos médicos como los implantes corporales por su alta propiedad de biocompatibilidad;
3. Los componentes de las máquinas de la categoría ML1 incluyen las máquinas de las categorías ML2 y ML4.
4. El tántalo pulverizado también se puede utilizar como una barrera de resistencia a la corrosión eficaz si el recubrimiento es continuo, defectuoso y se adhiere al sustrato..

Ventajas técnicas

1. Se aplica un carrito estandarizado que permite la carga/descarga fácil y segura de los soportes de sustrato y las piezas de trabajo dentro y fuera de la cámara de deposición.
2. El sistema está bloqueado de seguridad para evitar el funcionamiento incorrecto o prácticas peligrosas
3. Los calentadores de sustrato se proporcionan que montado en el centro de la cámara, PID controlado termoparejo para una alta precisión, para mejorar la adhesión de la película de condensación
4. Configuraciones de bombas de vacío fuertes con bomba molecular de suspensión magnética a través de una válvula de puerta conectada a la cámara; respaldada con la bomba de raíces de Leybold y la bomba de veleta rotativa de dos etapas, bomba mecánica.
5. Con este sistema se aplica una fuente de plasma ionizado de alta energía para garantizar la uniformidad y la densidad.
   
   
   

Sistema de deposición de pulverización de tántalo estandarizado de Royal Technology: RTSP1000

En el interior:

Tiempo de construcción: 2018

Ubicación: China

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