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Los procesos de magnetrones de campo desequilibrado y cerrado tienen todas las ventajas de los magnetrones planos.
La pulverización de magnetrones de campo desequilibrado y cerrado revolucionó las propiedades alcanzables por los procesos de pulverización de magnetrones.resistencia a la corrosión y propiedades ópticas como esta tecnología fueEn el próximo blog nos trasladaremos a los procesos de magnetrones rotativos y cilíndricos y a las aplicaciones de películas finas resultantes.
--- Sobre el Ártico desdeP E T E R M A R T I N
La tecnología real desarrolló catodos de pulverización de alto rendimiento y alto uso objetivo, especialmente para el pulverización de metales raros y caros: Au Gold, Ta Tantalum, Ag plata deposición de películas metálicas.El sistema de deposición de la película de alta uniformidad ha estado sirviendo a varias industrias como piezas electrónicas, componentes de instrumentos médicos que requieren una alta uniformidad de la película, deposición de múltiples capas.
La máquina RTSP1000 es una máquina estandarizada desarrollada por Royal Technology.
Limpieza de plasma de fuente de iones lineal y deposición asistida: por favorHaga clic aquípara ver el video
Por favor, póngase en contacto con nosotros para más especificaciones, Royal Technology tiene el honor de proporcionarle soluciones de recubrimiento total.