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Máquina de recubrimiento por pulverización catódica DC Magnetron / Sistema de pulverización catódica DC
Modelos de pulverización catódica con magnetrón: pulverización catódica DC, pulverización catódica MF, pulverización catódica RF
¿Qué es la pulverización catódica de CC?
La pulverización de CC se utiliza principalmente para pulverizar objetivos de metal puro como: cromo, titanio, aluminio, cobre, acero inoxidable, níquel, plata, oro para películas de alta conductividad.
La pulverización catódica DC es una técnica de recubrimiento de deposición física de vapor (PVD) de película delgada en la que un material objetivo que se utilizará como recubrimiento se bombardea con moléculas de gas ionizado que hacen que los átomos se "pulvericen" en el plasma.Estos átomos vaporizados se depositan luego cuando se condensan como una película delgada sobre el sustrato a recubrir.
La pulverización catódica de CC es el tipo de pulverización catódica más básico y económico para la deposición de metal PVD y materiales de revestimiento objetivo eléctricamente conductores.Dos de las principales ventajas de la CC como fuente de energía para este proceso es que es fácil de controlar y es una opción de bajo costo si está realizando una deposición de metal para el recubrimiento.
La pulverización catódica de CC se utiliza ampliamente en la industria de los semiconductores para crear circuitos de microchip a nivel molecular.Se utiliza para recubrimientos de oro por pulverización catódica de joyas, relojes y otros acabados decorativos, para recubrimientos no reflectantes en vidrio y componentes ópticos, así como para envases de plástico metalizado, espejos de automóviles, reflectores de iluminación de automóviles, ruedas y cubos de automóviles, etc.
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón de CCActuación
1. Presión máxima de vacío: mejor que 5,0 × 10-6Torr.
2. Presión de vacío de funcionamiento: 1,0 × 10-4Torr.
3. Tiempo de bombeo: de 1 atm a 1,0×10-4Torr≤ 3 minutos (temperatura ambiente, cámara seca, limpia y vacía)
4. Material de metalización (pulverización + evaporación por arco): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC, etc.
5. Modelo operativo: completamente automático/semiautomático/manualmente
Estructura de la máquina de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón de CC
La máquina de recubrimiento al vacío contiene el sistema completo clave que se detalla a continuación:
1. Cámara de vacío
2. Sistema de bombeo de vacío Rouhging (paquete de bomba de respaldo)
3. Sistema de bombeo de alto vacío (bomba molecular de suspensión magnética)
4. Sistema de operación y control eléctrico
5. Sistema de instalaciones auxiliares (subsistema)
6. Sistema de deposición: cátodo de pulverización catódica de CC, fuente de alimentación de CC, fuente de iones de fuente de alimentación de polarización opcional
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón de CCEspecificaciones
| RTSP1250-DC | |||||||
| MODELO | RTSP1250-DC | ||||||
| TECNOLOGÍA | Pulverización con magnetrón (CC) + Recubrimiento iónico | ||||||
| MATERIAL | Acero inoxidable (S304) | ||||||
| TAMAÑO DE LA CÁMARA | Φ1250*H1250mm | ||||||
| TIPO DE CÁMARA | Cilindro, vertical, 1 puerta | ||||||
| SISTEMA DE SPUTTER | Diseño exclusivo para deposición de película negra delgada | ||||||
| MATERIAL DE DEPÓSITO | Aluminio, plata, cobre, cromo, acero inoxidable, níquel, titanio | ||||||
| FUENTE DE DEPÓSITO | Objetivos de pulverización catódica cilíndricos/planares + 7 fuentes de arco catódico dirigidas | ||||||
| GAS | MFC- 4 vías, Ar, N2, O2, C2H2 | ||||||
| CONTROL | PLC (controlador lógico programable) + Pantalla táctil |
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| SISTEMA DE BOMBA | SV300B - 1 juego (Leybold) | ||||||
| WAU1001 - 1 juego (Leybold) | |||||||
| D60T-2 juegos (Leybold) | |||||||
| Bombas turbomoleculares: 2* F-400/3500 | |||||||
| PRETRATAMIENTO | Fuente de alimentación polarizada: 1*36 KW | ||||||
| SISTEMA DE SEGURIDAD | Numerosos enclavamientos de seguridad para proteger a los operadores Y equipamiento |
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| ENFRIAMIENTO | Agua fría | ||||||
| ENERGÍA ELÉCTRICA | 480 V/3 fases/60 HZ (compatible con EE. UU.) | ||||||
| 460 V/3 fases/50 Hz (compatible con Asia) | |||||||
| 380V/3 fases/50HZ (Cumple EU-CE) | |||||||
| HUELLA | L3000*W3000*H2000mm | ||||||
| PESO TOTAL | 7,0 toneladas | ||||||
| HUELLA | (L*An*Al) 5000*4000 *4000 MM | ||||||
| TIEMPO DEL CICLO | 30~40 minutos (dependiendo del material del sustrato, geometría del sustrato y condiciones ambientales) |
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| POTENCIA MÁX.. | 155KW | ||||||
| CONSUMO MEDIO DE ENERGÍA (APROX.) | 75KW | ||||||
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