máquina ULTRAVIOLETA de la exposición del PWB 1270dpi
Number modelo:CTS100
Lugar del origen:Jiangsu, China
Cantidad de orden mínima:1 sistema
Capacidad de la fuente:30set por mes
Plazo de expedición:20 días del trabajo
Detalles de empaquetado:embalaje de madera del caso
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Evaluación de proveedor
Suzhou China
Dirección:
Piso 2, edificio 2, edificio de Ruijing, No.868, camino del sur de Jinshan, ciudad de Mudu, distrito de Wuzhong, Suzhou
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Dentro de 28 Horas
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La máquina directa de la exposición del laser es un sistema de la exposición (CTS) que puede imagen una imagen del ordenador en una placa de la pantalla. La máquina directa de la exposición del laser incluye una lente óptica de alta precisión, un sistema de la proyección de imagen de DMD, un laser de 405 nanómetros, una plataforma estable del movimiento, un ordenador con un sistema informático eficiente, un monitor, y un sistema estable de la refrigeración por agua. Esta máquina directa de la exposición del laser puede exponer e imagen con la alta precisión en la pantalla de seda.
El laser directo simple y simple del sistema-CTS de la fabricación de placa del laser sistema directo de la fabricación de placa y fabricación de placa tradicional de la pantalla de seda proceso completo, puede leer directamente el formato de los archivos de datos mordidos de 1 tiff, convertirlos en imágenes y utilizar la proyección de la cabeza del laser para la proyección de imagen de la exposición, artesanía fina y artesanía tradicional es producción completa, conveniente para la impresión, las etiquetas, empaquetado, PWB, las etiquetas y las muestras, vidrio automotriz, vidrio del aparato electrodoméstico, vidrio electrónico, decoración y otras industrias de impresión de la pantalla.
Especificación/modelo
CTS100 Tamaño de pantalla máximo (milímetros) 900x1000 Tamaño de pantalla mínimo (milímetros) 400x400 Tamaño máximo de la exposición (milímetros)
800x900 Grueso del marco de pantalla
(anunció servicio está disponible)25-45m m Sistema de la proyección de imagen Tecnología de DMD DLP Grueso de la emulsión (EOM) Emulsión resistente solvente los 3μm-150μm, emulsión resistente 3μm- de agua los 220μm Tiempo de exposición 120-240s/ ㎡, malla amarilla #350 Resolución 1270/2540dpi (opcional) Trama 133LPI Sistema del foco Concentración fija Formato de archivo 1_bit tiff etc. Tipo del laser Laser ULTRAVIOLETA, longitud de onda 405±5nm Poder del laser 20W/25W (opcional) Tamaño del equipo (milímetros) 1550x1330x1460 Peso neto del equipo 1100KG Condiciones Sitio de luz ámbar con la clase de limpieza 10000, temperatura 22±2°C,
40-70% humedad relativa (ninguna condensación)Poder Monofásico 220v, 50/60HZ, 4KW (CTS200, CTS300), gas 1L/min
máquina ULTRAVIOLETA de la exposición del PWB 1270dpi
Carro de la investigación
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