El circonio de aluminio de Chrome del titanio de la blanco de la farfulla del metal niquela la evaporación de capa del molibdeno PVD del tantalio del niobio
Number modelo:20221010
Lugar del origen:China
Cantidad de orden mínima:1piece
Condiciones de pago:T/T, L/C
Capacidad de la fuente:10000 pedazos/pedazos por mes
Plazo de expedición:7~20 días del trabajo
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Baoji China
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Camino de No.26 Baotai, distrito de Weibin, ciudad de Baoji
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Objetivo de pulverización de metal Titanio Aluminio Cromo Zirconio Níquel Niobio Tántal Molibdeno PVD Evaporación del revestimiento
Los objetivos de pulverización de metales se utilizan en procesos de deposición física de vapor (PVD) para revestir materiales con una capa fina de metal.cromo, zirconio, níquel, niobio, tántalo y molibdeno.
| Punto de trabajo | La pureza | Densidad | Color del revestimiento | Forma de las piezas | Tamaño estándar | |
| Objetivo de aleación de titanio y aluminio (TiAl) | Las demás: | 3.6 a 4.2 | Oro rosa/café/champaña | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | Revestimiento decorativo PVD & revestimiento duro |
| El cromo puro (Cr) objetivo | 2N7-4N | 7.19 | gris/negro de pistola | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
| Objetivo de titanio puro (Ti) | Las demás: | 4.51 | Oro/oro rosa/azul/arco iris/negro claro/gris pistola | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
| Objetivo de Zirconio puro ((Zr)) | 2N5-4N | 6.5 | oro claro | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
| Objetivo de aluminio puro (Al) | 4N-5N | 2.7 | de plata | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
| Objetivo de níquel puro (Ni) | 3N-4N | 8.9 | el níquel | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
| Objetivo de niobio puro (Nb) | 3N | 8.57 | de color blanco | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
| Objetivo de Tántal puro (Ta) | 3N5 | 16.4 | negro/puro | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
| Objetivo de molibdeno puro (Mo) | 3N5 | 10.2 | negro | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
| Observaciones: El tamaño puede ser personalizado según los requisitos específicos. | ||||||
Campo de aplicación
Se utiliza en procesos de deposición, incluida la deposición de
semiconductores, la deposición química de vapor (CVD) y la
deposición física de vapor (PVD)
Se utiliza para óptica, incluida la protección contra el desgaste,
revestimientos decorativos y pantallas
Ventaja del producto
01Alta pureza química
02Bajo contenido de gas
03Cerca del 100% de densidad
04Cereales uniformes
05Estructura interna densa y homogénea
Objetivos de pulverización de metales utilizados en diversas
aplicaciones de deposición física de vapor (PVD) y recubrimiento
por evaporación
En el caso de los metales específicos, se presentan algunos detalles:
1Titanio: los objetivos de pulverización de titanio se utilizan comúnmente en aplicaciones de PVD y revestimiento por evaporación para depositar películas delgadas en una variedad de sustratos.El titanio es un material muy utilizado en recubrimientos porque es biocompatible y tiene excelentes propiedades mecánicas
2Aluminio: los objetivos de pulverización de aluminio también se utilizan en aplicaciones de revestimiento por PVD y evaporación, especialmente en la producción de revestimientos reflectantes y componentes electrónicos.Los recubrimientos de aluminio tienen una buena conductividad eléctrica y son altamente reflectantes, por lo que son ideales para su uso en aplicaciones ópticas y electrónicas.
3.Cromo: los objetivos de pulverización de cromo se utilizan en aplicaciones de revestimiento PVD y evaporación para una variedad de fines industriales y decorativos, incluida la producción de recubrimientos decorativos,componentes para automóviles, y componentes electrónicos.
4.Zirconio: los objetivos de pulverización de zirconio se utilizan comúnmente en aplicaciones de revestimiento de PVD y evaporación por su alto punto de fusión y excelente resistencia a la corrosión.Los recubrimientos de circonio se utilizan comúnmente en la producción de recubrimientos decorativos y componentes electrónicos de alto rendimiento.
5. Níquel: los objetivos de pulverización de níquel se utilizan ampliamente en aplicaciones de revestimiento por PVD y evaporación, especialmente en la producción de películas finas magnéticas y recubrimientos para componentes electrónicos.Los recubrimientos de níquel también se utilizan comúnmente en aplicaciones decorativas.
6Niobio: los objetivos de pulverización de niobio se utilizan en aplicaciones de revestimiento por evaporación y PVD por su alto punto de fusión, bajo coeficiente de expansión térmica y excelente resistencia química.Los recubrimientos de niobio se utilizan comúnmente en la producción de componentes electrónicos de alto rendimiento y recubrimientos ópticos.
7.Tántal: los objetivos de pulverización de tántalo se utilizan en aplicaciones de revestimiento de PVD y evaporación por su alto punto de fusión, excelente resistencia química y baja presión de vapor.Los recubrimientos de tántalo se utilizan comúnmente en la producción de condensadores, componentes electrónicos e implantes médicos.
8.Molibdeno: los objetivos de pulverización de molibdeno se utilizan en aplicaciones de revestimiento por evaporación y PVD por su alto punto de fusión, bajo coeficiente de expansión térmica,y excelente conductividad eléctricaLos recubrimientos de molibdeno se utilizan comúnmente en la producción de componentes electrónicos de alto rendimiento y recubrimientos ópticos.
El circonio de aluminio de Chrome del titanio de la blanco de la farfulla del metal niquela la evaporación de capa del molibdeno PVD del tantalio del niobio
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