4" ± epitaxial los 25µm/resistencia 0,002 - los 0.003Ωcm, 2 capas epitaxiales del grueso 525 del substrato de la oblea del silicio

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4" ± epitaxial los 25µm/resistencia 0,002 - los 0.003Ωcm, 2 capas epitaxiales del grueso 525 del substrato de la oblea del silicio

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