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Oblea sin impurificar de InSb, 2", oblea del Como-corte, oblea
mecánica, u oblea pulida
PAM-XIAMEN proporciona crecimiento de la oblea de InSb del solo cristal (antimoniuro del indio) por el método encapsulado líquido de Czochralski (LEC). El antimoniuro del indio (InSb) se puede suministrar como obleas los finales del como-corte, grabado al agua fuerte o pulido y está disponible en una amplia gama de concentración de portador, el diámetro y thickness.PAM-XIAMEN pueden proporcionar la oblea lista de InSb del grado del epi para su uso epitaxial del MOCVD y del MBE.
Oblea sin impurificar de InSb, 2", oblea del Como-corte, oblea mecánica, u oblea pulida
Entre en contacto con por favor a nuestro equipo del ingeniero para más información de la oblea.
Especificación de la oblea | |
Artículo | Especificaciones |
Diámetro de la oblea |
2 ″ 50.5±0.5m m |
Orientación cristalina |
″ 2 (111) AorB±0.1° |
Grueso |
2 ″ 625±25um |
Longitud plana primaria |
2 ″ 16±2m m |
Longitud plana secundaria |
2 ″ 8±1m m |
Final superficial | P/E, P/P |
Paquete | Envase de la oblea o casete Epi-listo, solo de los CF |
Eléctrico y dopando la especificación | |
Tipo de la conducción | n-tipo |
Dopante | Sin impurificar |
Cm2s de EPD | ≤50 |
² V-1s-1 del cm de la movilidad | ≥4*105 |
Concentración de portador cm-3 | 5*1013-3*1014 |
Concentración de la estructura y de portador de banda de oblea de
InSb
La concentración de la estructura y de portador de banda de oblea de InSb incluye parámetros básicos, temperatura, dependencias, la dependencia de la energía Gap de la presión hidrostática, masas eficaces, donantes y aceptadores
Parámetros básicos
Dependencias de la temperatura
Dependencia de la energía Gap de la presión hidrostática
Masas eficaces
Donantes y aceptadores
Hueco de energía | 0,17 eV |
Separación de la energía (EΓL) entre Γ y L valles | 0,51 eV |
Separación de la energía (EΓX) entre los valles de Γ y de X | 0,83 eV |
El partir vuelta-orbital de la energía | 0,80 eV |
Concentración de portador intrínseco | 2·1016 cm-3 |
Resistencia intrínseca | 4·10-3 Ω·cm |
Densidad eficaz de la banda de conducción de estados | 4,2·1016 cm-3 |
Densidad eficaz de la banda de la valencia de estados | 7,3·1018 cm-3 |
Concentración de la estructura y de portador de banda de InSb 300 K Eg. = 0,17 eV EL = 0,68 eV EV de EX= 1,0 Eso = 0,8 eV |
Eg. = 0,24 - 6·10-4·T2/(T+500) (eV),
donde está temperaturas T los grados K (0 < T="">
Nc~ 8·1012·T3/2 (cm-3)
Nn ~ 1,4·1015·T3/2 (cm-3).
ni = (Nc·Nν) 1/2exp (- Eg/(2kbT))
Para 200K < T="">
Las dependencias de la temperatura de la concentración de portador intrínseco. | |
Nivel de Fermi contra la temperatura para diversas concentraciones de donantes y de aceptadores bajos. |
Eg. ≈Eg. (0) + 13,7·10-3P - 3,6·10-5P2 (eV)
EL≈EL (0) + 4,7·10-3P - 1,1·10-5P2 (eV)
EX≈EX (0) - 3,5·10-3P + 0,64·10-5P2 (eV),
donde está presión P en kbar.
Electrones: | |
Para el Γ-valle | mΓ = 0.0.14mo |
No--parabolicity: E (1+αE) = h2k2/(2mΓ) | α = 4,1 (eV-1) |
En la masa eficaz del L-valle de la densidad de estados | mL=0.25mo |
Masa eficaz del electrón contra la concentración del electrón |
Agujeros: | Mh = 0.43mo |
Pesado | Mh = 0.43mo |
Luz | mlp = 0.015mo |
Banda de la fractura-apagado | mso = 0.19mo |
Masa eficaz de la densidad de estados | milivoltio = 0.43mo |
SE, S, Te.
Cd | Zn | Cr | Cu° | Cu |
0,01 | 0,01 | 0,07 | 0,028 | 0,056 |
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