La oblea sin impurificar de InSb, 2", como - corte la oblea, la oblea mecánica, o la oblea pulida

Lugar del origen:China
Cantidad de orden mínima:1-10,000pcs
Condiciones de pago:T/T
Capacidad de la fuente:10.000 obleas/mes
Plazo de expedición:5-50 días laborables
Detalles de empaquetado:Empaquetado en un ambiente del sitio limpio de la clase 100, en solo envase, bajo atmósfera del nitr
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Xiamen Fujian China
Dirección: #506B, centro de negocios de Henghui, No.77, Lingxia Nan Road, zona de alta tecnología, Huli, Xiamen 361006, China
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Oblea sin impurificar de InSb, 2", oblea del Como-corte, oblea mecánica, u oblea pulida
 

PAM-XIAMEN proporciona crecimiento de la oblea de InSb del solo cristal (antimoniuro del indio) por el método encapsulado líquido de Czochralski (LEC). El antimoniuro del indio (InSb) se puede suministrar como obleas los finales del como-corte, grabado al agua fuerte o pulido y está disponible en una amplia gama de concentración de portador, el diámetro y thickness.PAM-XIAMEN pueden proporcionar la oblea lista de InSb del grado del epi para su uso epitaxial del MOCVD y del MBE.

 

Oblea sin impurificar de InSb, 2", oblea del Como-corte, oblea mecánica, u oblea pulida

Entre en contacto con por favor a nuestro equipo del ingeniero para más información de la oblea.

Especificación de la oblea
ArtículoEspecificaciones
Diámetro de la oblea

 

2 ″ 50.5±0.5m m
 

Orientación cristalina

 

″ 2 (111) AorB±0.1°
 

Grueso

 

2 ″ 625±25um
 

Longitud plana primaria

 

2 ″ 16±2m m
 

Longitud plana secundaria

 

2 ″ 8±1m m
 

Final superficialP/E, P/P
PaqueteEnvase de la oblea o casete Epi-listo, solo de los CF

 

Eléctrico y dopando la especificación
Tipo de la conducciónn-tipo
DopanteSin impurificar
Cm2s de EPD≤50
² V-1s-1 del cm de la movilidad≥4*105
Concentración de portador cm-35*1013-3*1014

 
Concentración de la estructura y de portador de banda de oblea de InSb

La concentración de la estructura y de portador de banda de oblea de InSb incluye parámetros básicos, temperatura, dependencias, la dependencia de la energía Gap de la presión hidrostática, masas eficaces, donantes y aceptadores

Parámetros básicos
Dependencias de la temperatura
Dependencia de la energía Gap de la presión hidrostática
Masas eficaces
Donantes y aceptadores

Parámetros básicos

Hueco de energía0,17 eV
Separación de la energía (EΓL) entre Γ y L valles0,51 eV
Separación de la energía (EΓX) entre los valles de Γ y de X0,83 eV
El partir vuelta-orbital de la energía0,80 eV
Concentración de portador intrínseco2·1016 cm-3
Resistencia intrínseca4·10-3 Ω·cm
Densidad eficaz de la banda de conducción de estados4,2·1016 cm-3
Densidad eficaz de la banda de la valencia de estados7,3·1018 cm-3

 

Concentración de la estructura y de portador de banda de InSb 300 K
Eg. = 0,17 eV
EL = 0,68 eV
EV de EX= 1,0
Eso = 0,8 eV

Dependencias de la temperatura

Dependencia de la temperatura del hueco de energía

Eg. = 0,24 - 6·10-4·T2/(T+500) (eV),
donde está temperaturas T los grados K (0 < T="">  

Densidad eficaz de estados en la banda de conducción

Nc~ 8·1012·T3/2 (cm-3)

Densidad eficaz de estados en la banda de la valencia

Nn ~ 1,4·1015·T3/2 (cm-3).

Concentración de portador intrínseco

ni = (Nc·Nν) 1/2exp (- Eg/(2kbT))
Para 200K < T="">  

Las dependencias de la temperatura de la concentración de portador intrínseco.
Nivel de Fermi contra la temperatura para diversas concentraciones de donantes y de aceptadores bajos.

Dependencias de la presión hidrostática

Eg. ≈Eg. (0) + 13,7·10-3P - 3,6·10-5P2 (eV)
EL≈EL (0) + 4,7·10-3P - 1,1·10-5P2 (eV)
EX≈EX (0) - 3,5·10-3P + 0,64·10-5P2 (eV),
donde está presión P en kbar.

Masas eficaces

Electrones: 
Para el Γ-vallemΓ = 0.0.14mo
No--parabolicity:
E (1+αE) = h2k2/(2mΓ)
α = 4,1 (eV-1)
En la masa eficaz del L-valle de la densidad de estadosmL=0.25mo

 

Masa eficaz del electrón contra la concentración del electrón
 

 

Agujeros:Mh = 0.43mo
PesadoMh = 0.43mo
Luzmlp = 0.015mo
Banda de la fractura-apagadomso = 0.19mo
Masa eficaz de la densidad de estadosmilivoltio = 0.43mo

Donantes y aceptadores

Energías de ionización de los donantes bajos ~0,0007 (eV):

SE, S, Te.

Energías de ionización de los aceptadores bajos (eV):

CdZnCrCu°Cu
0,010,010,070,0280,056

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PAM-XIAMEN es orgulloso ofrecer el substrato del fosfuro de indio para todos los diferentes tipos de proyectos. Si usted está buscando las obleas de InSb, envíenos la investigación hoy para aprender más sobre cómo podemos trabajar con usted para conseguirle las obleas de InSb que usted necesita para su proyecto siguiente. ¡Nuestro equipo del grupo está mirando adelante a proporcionar productos de calidad y el servicio excelente para usted!

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