Oblea primera/mecánica del INP del grado, tipo de n, tipo de p o semiaislante en la orientación (100) o (111)

Lugar del origen:China
Cantidad de orden mínima:1-10,000pcs
Condiciones de pago:T/T
Plazo de expedición:10.000 obleas/mes
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Xiamen Fujian China
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Oblea mecánica del INP del grado, tipo de n, tipo de p o semiaislante en la orientación (100) o (111)
 

PAM-XIAMEN ofrece la oblea del INP del semiconductor compuesto - fosfuro de indio que son crecidos por LEC (Czochralski encapsulado líquido) o VGF (helada vertical de la pendiente) como grado epi-listo o mecánico con el tipo de n, el tipo de p o semiaislante en diversa orientación (111) o (100).

El fosfuro de indio (InP) es un semiconductor binario integrado por el indio y el fósforo. Tiene (“blenda de cinc”) una estructura cristalina cúbica cara-centrada, idéntica a la del GaAs y la mayor parte de los semiconductores de III-V. El fosfuro de indio se puede preparar de la reacción del yoduro del fósforo blanco y del indio [clarificación necesaria] en 400 °C., [5] también por la combinación directa de los elementos purificados en la temperatura alta y la presión, o por la descomposición termal de una mezcla de un compuesto y de un fosfuro del indio del trialkyl. El INP se utiliza en la electrónica de alta potencia y de alta frecuencia [citación necesaria] debido a su velocidad superior del electrón en cuanto a los semiconductores mas comunes silicio y al arseniuro de galio.

Aquí está la especificación de detalle:
2" (50.8m m) especificación de la oblea del INP
3" (76.2m m) especificación de la oblea del INP
4" (100m m) oblea Specificatio del INP
 
2" especificación de la oblea del INP
 
 
ArtículoEspecificaciones
DopanteN-tipoN-tipoP-tipoSI-tipo
Tipo de la conducciónSin impurificarAzufreCinclron
Diámetro de la oblea2"
Orientación de la oblea(100) ±0.5°
Grueso de la oblea350±25um
Longitud plana primaria16±2m m
Longitud plana secundaria8±1m m
Concentración de portador3x1016cm-3(0.8-6) x1018cm-3(0.6-6) x1018cm-3N/A
Movilidad(3.5-4) x103cm2/V.s(1.5-3.5) x103cm2/V.s50-70x103cm2/V.s>1000cm2/V.s
ResistenciaN/AN/AN/AN/A
EPD<1000cm>-2<500cm>-2<1x10>3cm2s<5x10>3cm2s
TTV<10um>
ARCO<10um>
DEFORMACIÓN<12um>
Marca del lasera petición
Final de SufaceP/E, P/P
Epi listo
PaqueteSolo envase o casete de la oblea

 


3" especificación de la oblea del INP

 

 
ArtículoEspecificaciones
DopanteN-tipoN-tipoP-tipoSI-tipo
Tipo de la conducciónSin impurificarAzufreCinclron
Diámetro de la oblea3"
Orientación de la oblea(100) ±0.5°
Grueso de la oblea600±25um
Longitud plana primaria16±2m m
Longitud plana secundaria8±1m m
Concentración de portador≤3x1016cm-3(0.8-6) x1018cm-3(0.6-6) x1018cm-3N/A
Movilidad(3.5-4) x103cm2/V.s(1.5-3.5) x103cm2/V.s50-70x103cm2/V.s>1000cm2/V.s
ResistenciaN/AN/AN/AN/A
EPD<1000cm>-2<500cm>-2<1x10>3cm2s<5x10>3cm2s
TTV<12um>
ARCO<12um>
DEFORMACIÓN<15um>
Marca del lasera petición
Final de SufaceP/E, P/P
Epi listo
PaqueteSolo envase o casete de la oblea

 

 
4" especificación de la oblea del INP
 
 
 
ArtículoEspecificaciones
DopanteN-tipoN-tipoP-tipoSI-tipo
Tipo de la conducciónSin impurificarAzufreCinclron
Diámetro de la oblea4"
Orientación de la oblea(100) ±0.5°
Grueso de la oblea600±25um
Longitud plana primaria16±2m m
Longitud plana secundaria8±1m m
Concentración de portador≤3x1016cm-3(0.8-6) x1018cm-3(0.6-6) x1018cm-3N/A
Movilidad(3.5-4) x103cm2/V.s(1.5-3.5) x103cm2/V.s50-70x103cm2/V.s>1000cm2/V.s
ResistenciaN/AN/AN/AN/A
EPD<1000cm>-2<500cm>-2<1x10>3cm2s<5x10>3cm2s
TTV<15um>
ARCO<15um>
DEFORMACIÓN<15um>
Marca del lasera petición
Final de SufaceP/E, P/P
Epi listo
PaqueteSolo envase o casete de la oblea
 
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Oblea primera/mecánica del INP del grado, tipo de n, tipo de p o semiaislante en la orientación (100) o (111)

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