Oblea semiaislante, del INP, 3", grado primero, para los dispositivos electrónicos y fotónicos

Brand Name:PAM-XIAMEN
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Payment Terms:T/T
Place of Origin:China
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Semiaislante, oblea del INP, 3", grado primero

 

PAM-XIAMEN fabrica las obleas del fosfuro de indio del solo cristal de la pureza elevada para los usos de la optoelectrónica. Nuestros diámetros estándar de la oblea se extienden a partir de 25,4 milímetros (1 pulgada) a 200 milímetros (6 pulgadas) de tamaño; las obleas se pueden producir en diversos gruesos y orientaciones con los lados pulidos o sin pulir y pueden incluir dopantes. PAM-XIAMEN puede producir grados de la amplia gama: grado primero, grado de la prueba, grado simulado, grado técnico, y grado óptico. PAM-XIAMEN también ofrecen los materiales a las especificaciones del cliente por la petición, además de las composiciones de encargo para los usos del anuncio publicitario y de la investigación y las nuevas tecnologías propietarias.

 

Semiaislante, oblea del INP, 3", grado primero

3" especificación de la oblea del INP   
ArtículoEspecificaciones
Tipo de la conducciónSI-tipo
DopanteHierro
Diámetro de la oblea3"
Orientación de la oblea100±0.5°
Grueso de la oblea600±25um
Longitud plana primaria8±1m m
Longitud plana secundaria8±1m m
Concentración de portador≤3x1016cm-3(0.8-6) x1018cm-3(0.6-6) x1018cm-3N/A
Movilidad(3.5-4) x103cm2/V.s(1.5-3.5) x103cm2/V.s50-70cm2/V.s>1000cm2/V.s
ResistenciaN/AN/AN/A>0.5x107Ωcm
EPD<1000cm-2<500cm-2<1x103cm-2<5x103cm-2
TTV<12um
ARCO<12um
DEFORMACIÓN<12um
Marca del lasera petición
Final de SufaceP/E, P/P
Epi listo
PaqueteSolo envase o casete de la oblea
 

Limpieza de la oblea

La limpieza de la oblea es una parte integrante de la industria de la oblea. El proceso de la limpieza implica el retiro de impurezas de partículas y químicas del semiconductor. Es imprescindible durante el proceso de la limpieza que el substrato no es dañado de ninguna manera. La limpieza de la oblea es ideal para los materiales silicio-basados puesto que es el elemento más común se utiliza que. Algunas de las ventajas de la limpieza de la oblea incluyen:

  • Ningún daño al silicio
  • Respetuoso del medio ambiente
  • Quita con seguridad y de manera efectiva cualesquiera contaminantes e imperfección superficiales
  • Aumenta el funcionamiento de la oblea

Ionización de impacto

La dependencia de la ionización valora para el αi de los electrones y agujerea βi contra 1/F, 300 K.
(  del   del cocinero y otros [1982]).
El voltaje de avería y la avería colocan contra el doping de la densidad para un empalme precipitado del p-n, 300 K
(Kyuregyan y Yurkov [1989]).

Usos

Los campos del uso del INP se dividieron en tres áreas principales. Se utiliza como la base

- para los componentes optoelectrónicos

- para la electrónica de alta velocidad.

- para el photovoltaics

Todavía hay una zona en el espectro electromágnetico entre las microondas y un infrarrojo sumamente inutilizados, con todo técnico emocionantes, designado a menudo “Terahertz”. Las ondas electromagnéticas en esta gama poseen propiedades híbridas que muestran características de alta frecuencia y ópticas simultáneamente. Los componentes basados del INP desbloquean esta gama espectral para las nuevas aplicaciones importantes.

 

¿Usted está buscando un substrato del INP?

PAM-XIAMEN es orgulloso ofrecer el substrato del fosfuro de indio para todos los diferentes tipos de proyectos. Si usted está buscando las obleas del INP, envíenos la investigación hoy para aprender más sobre cómo podemos trabajar con usted para conseguirle las obleas del INP que usted necesita para su proyecto siguiente. ¡Nuestro equipo del grupo está mirando adelante a proporcionar productos de calidad y el servicio excelente para usted!

 

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