Tipo libre del substrato N de GaN o semi - aislando para el Rf, el poder, llevado y el Ld

Substrato libre de GaN, tipo de N, semiaislantes para el Rf, el poder, llevado y el Ld

Substrato libre de GaN

PAM-XIAMEN ha establecido la tecnología de fabricación para (nitruro del galio) el   libre de la oblea del substrato del   de GaN que está para UHB-LED y el LD. Crecido por la tecnología de (HVPE) de la epitaxia de la fase de vapor del hidruro, nuestro substrato de GaN tiene densidad baja del defecto y menos o densidad macra libre del defecto.

Especificación del substrato libre de GaN

Aquí muestra la especificación de detalle:

substrato libre de GaN de 2 ″ (50.8m m) (nitruro del galio)

substrato libre de GaN de 1,5 ″ (38.1m m)

15m m, 10m m, substrato libre de 5m m GaN

Nota:

Oblea de la validación: Consideración de la conveniencia del uso, oblea de la validación del zafiro del ″ de la oferta 2 de PAM-XIAMEN para debajo del substrato libre de GaN del tamaño de 2 ″

Uso del substrato de GaN

Iluminación de estado sólido: Los dispositivos de GaN se utilizan como diodos electroluminosos del brillo ultra alto (LED), TV, automóviles, e iluminación general

Almacenamiento del DVD: Diodos láser azules

Dispositivo de poder: Los dispositivos de GaN se utilizan como diversos componentes en electrónica de poder de alta potencia y de alta frecuencia como estaciones base, satélites, amplificadores de potencia, e inversores/convertidores celulares para los vehículos eléctricos (EV) y los vehículos eléctricos híbridos (HEV). La sensibilidad baja de GaN a la radiación ionizante (como otros nitruros del grupo III) le hace un material conveniente para los usos spaceborne tales como órdenes de célula solar para los satélites y los dispositivos de alta potencia, de alta frecuencia para la comunicación, el tiempo, y los satélites de la vigilancia

Ideal para el nuevo crecimiento de los III-nitruros

Estaciones base inalámbricas: Transistores de poder del RF

Acceso de banda ancha inalámbrico: MMICs de alta frecuencia, RF-circuitos MMICs

Sensores de la presión: MEMS

Sensores del calor: detectores Piro-eléctricos

Condicionamiento de poder: Integración de las señales encontradas GaN/Si

Electrónica de automóvil: Electrónica da alta temperatura

Líneas de transmisión de poder: Electrónica de alto voltaje

Sensores del marco: Detectores ULTRAVIOLETA

Células solares: El hueco de la banda amplio de GaN cubre el espectro solar a partir de 0,65 eV al eV 3,4 (que es prácticamente el espectro solar entero), haciendo el nitruro del galio del indio

(InGaN) alea perfecto para crear el material de la célula solar. Debido a esta ventaja, las células solares de InGaN crecidas en los substratos de GaN se contrapesan para convertirse en una de las nuevas aplicaciones y del mercado más importantes del crecimiento para las obleas del substrato de GaN.

Ideal para los HEMTs, FETs

El material avanzado Co. de Xiamen Powerway, limitado (PAM-XIAMEN) es una empresa de alta tecnología para el crecimiento cristalino del semiconductor del material del semiconductor compuesto, el desarrollo de proceso y la epitaxia de integración, especializándose en la investigación y la producción de obleas de semiconductor compuesto, allí es el campo principal dos: Material de SiC&GaN (sic oblea y epitaxia, oblea de GaN y oblea del epi) y material de III-V (servicio del substrato y del epi de III-V: Oblea del INP, oblea de GaSb, oblea del GaAs, oblea de InAs y oblea de InSb). Nuestras obleas son ampliamente utilizadas en la iluminación del semiconductor del LED, comunicación inalámbrica, energía solar, dispositivo infrarrojo, laser, detectores y los dispositivos de poder del semiconductor, incluyendo los dispositivos de poder, dispositivos des alta temperatura y dispositivos fotoeléctricos, en esto, oblea de GaN incluyendo GaN en el Si, GaN encendido sic y GaN en el zafiro están para LED mini/micro, la electrónica de poder y la microonda RF.

Como compañía profesional principal, estamos confiados constantemente a mejorar la calidad de productos existentes. PAM-XIAMEN tiene un equipo técnico fuerte de R y de D, integrado por estudiantes de tercer ciclo, los doctores, amos, y tiene una fuerza fuerte de R y de D. La espina dorsal técnica de la compañía casi se ha dedicado a la preparación material y diseño y desarrollo relacionados del equipo para 30years, y tiene investigación profundizada sobre las propiedades de la comprobación, químicas y eléctricas de los materiales, proceso material de la preparación. La acumulación de muchos años de deposición teórica y de experiencia práctica de personales científicos y tecnológicos hace a la compañía tiene penetraciones únicas y ventajas únicas en el desarrollo de materiales y del equipo relevantes, mientras que se asegura de que el esquema del diseño del funcionamiento y del equipo de producto de la compañía cubre las necesidades técnicas y tecnológicas reales de usuarios.