substrato libre del Si-GaN GaN del avión (de 11-22) por epitaxia de la fase de vapor del hidruro

Lugar del origen:China
Cantidad de orden mínima:1-10,000pcs
Condiciones de pago:T/T
Capacidad de la fuente:10.000 obleas/mes
Plazo de expedición:5-50 días laborables
Detalles de empaquetado:Empaquetado en un ambiente del sitio limpio de la clase 100, en solo envase, bajo atmósfera del nitr
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Xiamen Fujian China
Dirección: #506B, centro de negocios de Henghui, No.77, Lingxia Nan Road, zona de alta tecnología, Huli, Xiamen 361006, China
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substrato libre del Si-GaN GaN del avión (de 11-22) por epitaxia de la fase de vapor del hidruro

 

PAM-XIAMEN ha establecido la tecnología de fabricación para (nitruro del galio) la oblea libre del substrato de GaN que está para UHB-LED y el LD. Crecido por la tecnología de (HVPE) de la epitaxia de la fase de vapor del hidruro, nuestro substrato de GaN tiene densidad baja del defecto y menos o densidad macra libre del defecto.

 

PAM-XIAMEN ofrece la gama completa de GaN y los materiales relacionados de III-N incluyendo los substratos de GaN de diversas orientaciones y conductividad eléctrica, las plantillas del crystallineGaN&AlN, y los epiwafers de encargo de III-N.

 

 

substrato libre del Si-GaN GaN del avión (de 11-22)

ArtículoPAM-FS-GaN (11-22) - SI
Dimensión5 x 10 milímetros2
Grueso350 ±25 µm del µm 430 ±25
Orientación

(10-11) acepille de ángulo hacia Uno-AXIS 0 ±0.5°

(10-11) acepille de ángulo hacia C-AXIS -1 ±0.2°

Tipo de la conducciónSemiaislante
Resistencia (300K)> 106 Ω·cm
TTVµm del ≤ 10
ARCO-10 µm del ≤ 10 del ARCO del ≤ del µm
Aspereza superficial

Parte delantera: Ra<0>

Lado trasero: Tierra fina o pulido.

Densidad de dislocaciónA partir de la 1 de x 10 5 a 5 de x 10 6 cm-2
Densidad macra del defecto0 cm2s
Área usable> el 90% (exclusión del borde)
Paquetecada uno en solo envase de la oblea, bajo atmósfera del nitrógeno, llena en sitio limpio de la clase 100

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

substrato libre del Si-GaN GaN del avión (de 11-22)

El substrato de GaN de PAM-XIAMEN (nitruro del galio) es substrato monocristal con de alta calidad, que se hace con método de HVPE y tecnología de proceso originales de la oblea. Son uniformidad arriba cristalina, buena, y calidad superficial superior. Los substratos de GaN se utilizan para muchas clases de usos, para LED blanco y LD (violeta, azul y verde), además el desarrollo ha progresado para el poder y las aplicaciones para dispositivos electrónicas de alta frecuencia.

 

La tecnología de GaN se utiliza en usos de alta potencia numerosos tales como fuentes industriales, del consumidor y del servidor de alimentación, impulsión solar, de la CA e inversores de UPS, y coches híbridos y eléctricos. Además, GaN se adapta idealmente para los usos del RF tales como estaciones base, los radares e infraestructura celulares de la televisión por cable en el establecimiento de una red, los sectores del espacio aéreo y de la defensa, los gracias a su alta fuerza de la avería, figura de poco ruido y las altas linearidades.

 

INFORME oscilante de la Material-PRUEBA de las curvas-GaN de XRD

 

Un informe de prueba es necesario mostrar la conformidad entre la descripción de encargo y nuestros datos finales de las obleas. Probaremos el characerization de la oblea por el equipo antes del envío, probando la aspereza superficial por el microscopio atómico de la fuerza, el tipo por el instrumento romano de los espectros, la resistencia por el equipo de prueba sin contacto de resistencia, la densidad del micropipe por el microscopio de polarización, la orientación por la radiografía Orientator etc. si las obleas cumplen el requisito, nosotros limpiaremos y embalarlos en sitio limpio de 100 clases, si las obleas no hacen juego espec. de la aduana, la quitaremos.

 

El de ancho total de media altura (FWHM) es una expresión de la gama de funciones dadas por la diferencia entre dos valores extremos de la variable independiente igual a la mitad de su máximo. Es decir es la anchura de la curva espectral medida entre esos puntos en Y-AXIS, que es mitad de la amplitud máxima.

 

Abajo está un ejemplo de las curvas oscilantes de XRD del material de GaN:

 

Curvas oscilantes de XRD del material de GaN

 

China substrato libre del Si-GaN GaN del avión (de 11-22) por epitaxia de la fase de vapor del hidruro supplier

substrato libre del Si-GaN GaN del avión (de 11-22) por epitaxia de la fase de vapor del hidruro

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