La blanco del metal de la blanco de la farfulla del titanio del pvd de la pureza elevada modificó para requisitos particulares
Number modelo:LH-10
Lugar del origen:China
Cantidad de orden mínima:10 pedazos
Condiciones de pago:L/C, D/P, T/T, Western Union, PayPal etc
Capacidad de la fuente:5000 pedazos por semana
Plazo de expedición:15-20 días
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Baoji Shaanxi China
Dirección:
Sitio 2508, 25/f, unidad 1, bloque B, plaza internacional de Wanrun, 4to camino de Gaoxin, ciudad de Baoji, provincia de Shaanxi, China
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Dentro de 27 Horas
Detalles del producto
Perfil de la compañía
Detalles del producto
Objetivo de pulverización de titanio pvd de alta pureza Objetivo de metal personalizado
El objetivo de pulverización se puede dividir en objetivo giratorio, objetivo plano, objetivo de arco múltiple de acuerdo con el principio de trabajo.
Se puede dividir en blanco de metal no ferroso puro, Ti de titanio puro, níquel puro Ni, cromo Cr, niobio Nb, aluminio Al, molibdeno según el material.Todos los tipos de metales pueden ser utilizados como objetivos.Los objetivos de pulverización que podemos proporcionar son: objetivos de aleación, zirconio aluminio ZrAl, níquel cromo NiZr, titanio aluminio TiAl, titanio níquel TiNi, níquel cromo NiCr, cobre titanio TiCu, etc.La proporción de metal del objetivo de la aleación es una aleación de titanio-aluminio como ejemplo: Relación de masa 50:50 wt%, relación atómica 80:20at%.
Nombre del producto:objetivo de pulverización de titanio
Purificación:990,5%, 99,95%, 99,98%, 99,995%. ¿Qué es eso?
Tamaño:con un diámetro de 300*40 mm, diámetro de 300*25 mm, Diámetro 100*40mm, diámetro 99*40mm, diámetro 65*40mm, etc. O según los dibujos de los clientes.
El material:
1.Titanio puro: GR1 GR2
2.Las aleaciones de titanio: titanio Gr5, titanio aluminio TiAl, titanio níquel TiNi, titanio cromo TiCr, titanio zirconio TiZr, titanio cobre TiCu, etc.
3.Otros materiales: objetivos de pulverización de circonio, objetivos de pulverización de cromo, objetivos de pulverización de tungsteno, objetivos de pulverización de cobre, etc.
Aplicaciones:Revestimiento decorativo, Revestimiento de herramientas de hardware, Semiconductores, pantallas planas
Características:Precios competitivos, Alta pureza, Gran refinado, Microestructura de ingeniería
(tamaño medio del grano < 20 μm), grado semiconductor
Imágenes detalladas:
Revestimiento al vacío:un método de fabricación de una película sobre un sustrato bajo vacío) puede cumplir con este requisito de precisión.
Ventajas del revestimiento al vacío:1Este proceso no produce aguas residuales industriales, gases residuales o residuos de residuos, y tiene grandes ventajas ambientales.que no dañe el producto Material y funcionamiento original; 3. Dado que el espesor de la película producida es del nivel de micron nanómetro, y el espesor de la película es uniforme, no dañará el aspecto y el tamaño del producto,y la precisión es extremadamente alta.
Acerca de nuestra empresa:
La blanco del metal de la blanco de la farfulla del titanio del pvd de la pureza elevada modificó para requisitos particulares
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