Substrato de GaN

Lugar del origen:HEFEI, China
Cantidad de orden mínima:10 PC
Condiciones de pago:T/T
Capacidad de la fuente:5000000 PCS/Month
Plazo de expedición:30 días
Detalles de empaquetado:CAJAS
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Hefei Anhui China
Dirección: Camino de No.451 Huangshan, Hefei, Anhui, China
Proveedor Último login veces: Dentro de 27 Horas
Detalles del producto Perfil de la compañía
Detalles del producto

Con un amplio intervalo de banda directo (~3.4 eV), fuertes enlaces atómicos, alta conductividad térmica y excelente resistencia a la radiación, el GaN no es solo un material optoelectrónico de longitud de onda corta, sino que también es un material de alta resistencia a la radiación.pero también un material alternativo para dispositivos de semiconductores de alta temperaturaBasado en las propiedades físicas y químicas estables, GaN es adecuado para aplicaciones de LED (luz azul, verde, UV), detectores ultravioleta y dispositivos optoelectrónicos de alta potencia y alta frecuencia.

 

Especificación
El tipoGaN-FS-10GaN-FS-15 y sus derivados
Tamaño10.0 mm × 10,5 mm14.0 mm × 15,0 mm
El grosor

El rango 300, el rango 350,

Clasificación 400

un tamaño de la lámina superior a 300 ± 25 μm, 350 ± 25 μm,

400 ± 25 μm

OrientaciónEje C ((0001) ± 0,5°
TTV≤ 15 μm
- ¿Qué quieres decir?≤ 20 μm
Concentración del portador> 5x1017/cm3/
Tipo de conducciónTipo NSemi-aislante
Resistividad ((@ 300K)< 0,5 Ω•cm> 10 años6O•cm
Densidad de dislocaciónMenos de 5x106en cm- ¿Qué es?
Superficie utilizable> 90%
Pulido

Superficie delantera: Ra < 0,2 nm.

Superficie trasera: suelo fino

PaqueteEmbalado en un ambiente de sala limpia de clase 100, en recipientes de una sola oblea, bajo una atmósfera de nitrógeno.
China Substrato de GaN supplier

Substrato de GaN

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