El metal del W-Ti que farfulla apunta el billete planar para el depósito físico del vapor del semiconductor
Number modelo:fgd t-002
Lugar del origen:China
Cantidad de orden mínima:50KG
Condiciones de pago:L/C, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacidad de la fuente:50 toneladas métricas por mes
Plazo de expedición:3-5 días
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Luoyang Henan China
Dirección:
No. 102, Edificio 33, Fase II del Parque Industrial Zhongde, distrito de Yibin, ciudad de Luoyang, provincia de Henan
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Meta de pulverización de W-Ti de aleación de tungsteno de ultra alta pureza Placa Planar Billet para la deposición de vapor físico de semiconductores
El tungsteno-titanio (WTi) se sabe que las películas actúan como una barrera de difusión efectiva entre Al y Si en la industria de las células fotovoltaicas y semiconductoras.WTiLas películas se depositan típicamente como películas delgadas por deposición física de vapor (PVD) mediante pulverización de unWTies deseable producir un objetivo que proporcione uniformidad de la película,Para cumplir con los requisitos de fiabilidad de las barreras de difusión de los circuitos integrados complejos, elWTiEl objetivo de la aleación debe tener una alta pureza y una alta densidad.
| El tipo | No (peso por ciento) | Ti (peso por ciento) | Purificación (peso por ciento) | Densidad relativa (%) | Tamaño del grano (μm) | Dimensión (mm) | Ra (μm) |
| El WTi-10 | 90 | 10 | 99.9-99. ¿Qué quieres decir?995 | ≥ 99 años | ≤ 20 años | ≤Ø452 | ≤ 16 |
| El WTi-20 | 80 | 20 | 99.9-99. ¿Qué quieres decir?99 | ≥ 99 años | ≤ 20 años | ≤Ø452 | ≤ 16 |
| WTi | 70 a 90 | 10 a 30 | 99.9-99. ¿Qué quieres decir?995 | ≥ 99 años | ≤ 20 años | ≤Ø452 | ≤ 16 |
El metal del W-Ti que farfulla apunta el billete planar para el depósito físico del vapor del semiconductor
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