Capa dieléctrica excelente de la uniformidad de una oblea termal más alta del óxido como aislador

Number modelo:Ms
Lugar del origen:China
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Capacidad de la fuente:10000 pedazos por mes
Plazo de expedición:3 días laborables
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Zhengzhou Henan China
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Oblea termal del óxido, una uniformidad más alta, y una fuerza dieléctrica más alta, capa dieléctrica excelente como aislador

 

La capa termal del dióxido del óxido o de silicio se forma en superficie desnuda del silicio en la temperatura elevada en presencia de un oxidante, el proceso se llama oxidación termal. El óxido termal se crece normalmente en un horno de tubo horizontal, en la gama de temperaturas de 900°C ~ 1200°C, usando “un método mojado” o “seco” del crecimiento. El óxido termal es una clase de capa “crecida” del óxido, comparada al CVD depositó capa del óxido, tiene una uniformidad más alta, y una fuerza dieléctrica más alta, es una capa dieléctrica excelente como aislador. En la mayoría del silicio basó los dispositivos, la capa termal del óxido desempeña un papel importante para pacificar la superficie del silicio para actuar como doping de barreras y como dieléctricos superficiales. proporcionamos la oblea termal del óxido en diámetro a partir de la 2" a 12", elegimos siempre el grado primero y la oblea de silicio sin defecto como substrato para crecer capa termal del óxido de la alta uniformidad para cumplir sus requisitos específicos. Éntrenos en contacto con para más información sobre precio y plazo de expedición.

 

Capacidad termal del óxido

Típicamente después de proceso termal de la oxidación, la parte delantera y el lado trasero de la oblea de silicio tienen capa del óxido. En caso de que se requiera solamente una capa lateral del óxido, podemos quitar detrás la oblea termal del óxido y del óxido del lado de la oferta una para usted.
 

Gama del grueso del óxidoTécnica de la oxidaciónDentro de la oblea
uniformidad
Oblea a la oblea
uniformidad
Superficie procesada
100 Å ~ 500Åóxido secoel +/- 5%el +/- 10%ambos lados
600 Å ~ 1000Åóxido secoel +/- 5%el +/- 10%ambos lados
100 nanómetro ~ 300 nanómetroóxido mojadoel +/- 5%el +/- 10%ambos lados
400 nanómetro ~ 1000 nanómetroóxido mojadoel +/- 3%el +/- 5%ambos lados
1 um ~ 2 umóxido mojadoel +/- 3%el +/- 5%ambos lados
3 um ~ 4 umóxido mojadoel +/- 3%el +/- 5%ambos lados
5 um ~ 6 umóxido mojadoel +/- 3%el +/- 5%ambos lados

Uso termal de la oblea del óxido

 

100 APuertas el hacer un túnel
150 A ~ 500 AÓxidos de la puerta
200 A ~ 500 ALos LOCOS rellenan el óxido
A 2000 ~ 5000 AÓxidos que enmascaran
3000 A ~ 10000 AÓxidos del campo

 

Especificación de producto

 
Técnica de QxidationOxidación mojada u oxidación seca
Diámetro/Ø 12"/Ø/Ø/Ø/Ø Ø 2" 3" 4" 6" 8"
Grueso del óxido100 A ~ 6 um
Toleranciael +/- 5%
SuperficieSola capa lateral o doble del óxido de los lados
HornoHorno de tubo horizontal
GaseGases del hidrógeno y del oxígeno
Temperatura° DE 900 C - ° 1200 DE C
Índice de refracción1,456

 

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Capa dieléctrica excelente de la uniformidad de una oblea termal más alta del óxido como aislador

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