EL PROCESO FÍSICO DE LA DEPOSICIÓN DE VAPOR (PVD) SE UTILIZA EN LA FABRICACIÓN DEL MICROPROCESADOR DEL LED, BANDEJA DE SIC PVD
Number modelo:Ms
Lugar del origen:CHINA
Cantidad de orden mínima:1 pedazo
Condiciones de pago:L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacidad de la fuente:10000 pedazos por mes
Plazo de expedición:3 días laborables
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Zhengzhou Henan China
Dirección:
No. 26, calle de Dongqing, zona de alta tecnología, Zhengzhou, Henan, China
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Sic bandeja de PVD
La bandeja del carburo de silicio PVD es formada por proceso el presionar isostático y sinterización en la temperatura alta. El diámetro, el grueso, el número y el tamaño externos de acupoints, de la posición y de la forma del surco de la tableta se pueden también acabar según los requisitos de los dibujos del estudio del usuario de cumplir los requisitos específicos del usuario.
Usos típicos
- El proceso físico de la deposición de vapor (PVD) se utiliza en la fabricación del microprocesador del LED.
Características y ventajas
- Alta densidad
- Buena conductividad termal, coeficiente de extensión bajo y uniformidad de la temperatura
- Resistencia de impacto del plasma
- Resistente a toda clase de corrosión química fuerte el reactivo del ácido y del álcali
- Después de la limpieza del grado del semiconductor
Especificaciones 230/300/330m m
EL PROCESO FÍSICO DE LA DEPOSICIÓN DE VAPOR (PVD) SE UTILIZA EN LA FABRICACIÓN DEL MICROPROCESADOR DEL LED, BANDEJA DE SIC PVD
Carro de la investigación
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