Alta pureza 99,95% Pulverización de tungsteno objetivo de arena
Lugar de origen:China
Cantidad mínima de pedido:Negociar
Condiciones de pago:Las condiciones de los productos incluidos en el presente Reglamento son las siguientes:
Capacidad de suministro:10000sets/month
Tiempo de entrega:30 días después de recibir el pago inicial
Detalles del embalaje:Cartones de exportación estándar
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Evaluación de proveedor
Luoyang China
Dirección:
Parque de Ciencia y Tecnología de la Universidad Nacional de Luoyang
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1,Descripción:
Material: Los materiales objetivo de tungsteno se fabrican generalmente a partir de tungsteno o aleaciones de tungsteno de alta pureza, diseñados específicamente para su uso en procesos de deposición física de vapor (PVD).
Punto de fusión alto: El tungsteno tiene un punto de fusión excepcionalmente alto de aproximadamente 3,422 grados Celsius (6,191 grados Fahrenheit),que permite resistir las altas temperaturas generadas durante los procesos de PVD.
Densidad: Los materiales objetivo de tungsteno tienen una alta densidad, que generalmente oscila entre 17,8 y 19,3 gramos por centímetro cúbico (g/cm3), lo que garantiza una alta tasa de deposición y una utilización eficiente del material.
2,Especificaciones:
| El material | Los demás materiales de la partida 9402 incluidos |
| Punto de fusión | Aproximadamente 3.422 grados Celsius (6.191 grados Fahrenheit) |
| Densidad | 17.8 - 19,3 gramos por centímetro cúbico (g/cm3) |
| Conductividad térmica | Excelente conductividad térmica |
| Tasa de pulverización | Relativamente baja velocidad de pulverización, pérdida mínima de material |
| Purificación | Altos niveles de pureza, impurezas mínimas |
| Uniformidad | Dimensiones precisas y uniformidad para una deposición de película consistente |
Alta pureza 99,95% Pulverización de tungsteno objetivo de arena
Carro de la investigación
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