Horno de recocido vertical de semiconductores de 160 l de capacidad

Nombre:Fuego de vacío vertical de alta presión y de alto vacío
Componentes básicos:PLC, motor, transporte, caja de cambios, motor, recipiente del reactor, engranaje, bomba
Dimensión ((L*W*H):300*300*500-700*700*1200 (puede ser personalizado)
calentador:Correa del MES, tungsteno, grafito, SiMo, sic
Estructura:Horizontal o vertical
Válvula de tensión:Opcional Personalizado ((110V/220v/380v/660v)
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Changzhou Jiangsu China
Dirección: No 10, Parque 2, calle Yulong Norte, ciudad de Chunjiang, distrito de Xinbei, ciudad de Changzhou, provincia de Jiangsu, China
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Detalles del producto

9.8MPa atmósfera protectora de carga vertical para el horno de sinterización industrial de presión de gas al vacío de nitruro de silicio a alta temperatura

 

 

Se utilizará para la base de hierro, la base de ni, la aleación de alta temperatura y otras aleaciones de precisión, la fusión de materiales magnéticos y la fundición de precisión.

 

Características

La temperatura de calentamiento es alta, velocidad de fusión

 

En condiciones de vacío, en el proceso de fusión se pueden añadir otros elementos.

 

Estructura compacta, diseño racional, operación sencilla.

 

Tipo de horno en dos tipos vertical y horizontal

 

Composición del equipo

El horno, la cubierta de la carretera, los sensores, el crisol, los materiales aislantes, la caja de carga, el mecanismo de elevación de la cubierta del horno, las unidades de vacío y la potencia de frecuencia moderada, el gabinete de control eléctrico,composición del dispositivo de medición de temperatura.

 

Especificación

   

NombreFuego de vacío vertical de alta presión y de alto vacío
Componentes básicosPLC, motor, rodamiento, caja de engranajes, motor, recipiente de presión, engranaje, bomba
Dimensión ((L*W*H)300*300*500-1000*1000*2000 ((Personalizado)
CalentadorMo2 calefacción, cinturón Mo, tungsteno, grafito, Simo, Sic
EstructuraSe aplicarán las siguientes medidas:
Válvula de tensiónOpcional Personalizado ((110v/220v/380v/660v)
Temperatura máxima1000 °C a 3000 °C
Max. Presión del gas9.8mpa
UtilizaciónHorno de tratamiento térmico
EstructuraHorizontal o vertical
AplicaciónGrafitización, purificación, tratamiento de calor
Ambiente de trabajoProtección del vacío, el argón, el nitrógeno y el hidrógeno en la atmósfera
Capacidad160 litros

 

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Horno de recocido vertical de semiconductores de 160 l de capacidad

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