

Add to Cart
Productos de alúmina personalizados para componentes de alta temperatura y resistentes a la corrosión
Nuestros componentes cerámicos de alúmina de alta precisión utilizan material Al₂O₃ ultrapuro (pureza ≥99,6%) diseñado específicamente para aplicaciones de instrumentación de precisión. Con un acabado superficial a nivel de nanómetros (Ra≤0,05μm) y una precisión dimensional a nivel de micras (±0,005 mm), estos componentes cumplen con los requisitos más exigentes en equipos de semiconductores, instrumentos ópticos y dispositivos médicos.
Fabricación de semiconductores: Brazos de manipulación de obleas, revestimientos de cámaras de vacío, boquillas de plasma
Instrumentación óptica: Monturas de espejos láser, conjuntos de ranuras de espectrómetros, plataformas de referencia de interferómetros
Equipos de análisis médico: Fuentes de iones de espectrómetros de masas, columnas cerámicas cromatográficas, módulos de ciclo térmico PCR
Investigación científica: Bridas UHV, plataformas experimentales criogénicas, óptica de radiación de sincrotrón
Metrología industrial: Puntas de sonda CMM, bloques de referencia de perfilómetros de superficie, plataformas giratorias de probadores de redondez
✨ Mecanizado de ultraprecisión: Precisión del perfil ≤0,1 μm, tolerancia angular ±5 segundos de
arco
✨ Estabilidad excepcional: CTE 7,2±0,1×10⁻⁶/℃ (20-100℃)
✨ Superficie ultralimpia: Contenido de iones metálicos <1ppm
✨ Personalización funcional: Zonas conductivas/aislantes/antiestáticas integradas
✨ Resistencia ambiental: Tolerancia a la radiación >10⁶Gy, tasa de desgasificación
<10⁻¹¹Pa⋅m³/s
Parámetro | Especificación |
---|---|
Pureza del material | Al₂O₃≥99,6% |
Densidad | 3,92±0,02 g/cm³ |
Rugosidad superficial | Ra≤0,05μm |
Planitud | ≤0,1μm/25mm |
Dureza Vickers | HV0,5≥1800 |
Estanqueidad al vacío | Tasa de fuga <10⁻¹⁰mbar⋅L/s |
Procesamiento de polvo ultrafino: Granulación por pulverización de polvo de alúmina de 50 nm
Prensado isostático: Prensado isostático en frío a 200 MPa
Sinterización en atmósfera: Sinterización en atmósfera de hidrógeno a 1700℃
Mecanizado de ultraprecisión: Electroerosión por hilo lento de 5 ejes + rectificado con diamante
Procesamiento en sala limpia: Limpieza ultrasónica Clase 100
Inspección completa: Interferometría de luz blanca + verificación dimensional completa CMM
➤ Utilice herramientas de sala limpia dedicadas y guantes ESD
durante la instalación
➤ Temperatura de funcionamiento recomendada: -60℃ a 450℃
➤ Evite medios corrosivos fuertes (HF, ácido fosfórico caliente,
etc.)
➤ Se recomienda la limpieza con plasma cada 500 horas de
funcionamiento
➤ Condiciones de almacenamiento: 22±1℃, 45±5% HR
P: ¿Puede cumplir con los estándares de superficie óptica
ISO-10110?
R: Capaz de planitud óptica λ/20@632,8nm
P: ¿Ofrecen soluciones cerámicas conductoras?
R: Resistencia superficial personalizable 10⁴-10¹⁰Ω
P: ¿Dimensiones máximas de una sola pieza?
R: Capacidad actual 300×300×50 mm (ensamblajes más grandes
disponibles)
P: ¿Cómo se garantiza el rendimiento UHV?
R: El proceso de sinterización especial logra una menor
desgasificación que la mayoría de los metales