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El horno de deposición química de vapor (CVD) tipo MBF100-10 está diseñado para el tratamiento térmico a temperatura media de productos electrónicos y el procesamiento de materiales. Este horno de grado industrial admite procesos de reacción en fase gaseosa en atmósferas de nitrógeno, helio, acetileno e hidrógeno, así como procesos de sinterización en atmósferas protectoras. Equipado con un sistema de monitoreo por computadora en tiempo real, es ideal para institutos de investigación y aplicaciones de prueba de procesos de materiales.
Atributo | Valor |
---|---|
Modelo del producto | MBF100-10 |
Temperatura nominal | 750°C |
Temperatura máxima | 1000°C |
Dimensiones de la zona de calentamiento | 770 × 770 × 300 mm (An × Pr × Al) |
Dimensiones efectivas | 640 × 640 × 250 mm (An × Pr × Al) |
Elemento calefactor | Calentador de fibra cerámica FEC |
Estabilidad de la temperatura | ±1°C con ajuste automático PID |
Método de control | Pantalla táctil + control centralizado PLC |
Peso | Aprox. 500 kg |
Dimensiones del horno | 1200×1200×1500mm (An×Al×Pr) |
Artículo | Nota | Cantidad |
---|---|---|
Unidad de horno | 1 | |
Controlador de flujo másico (MFC) | Yamatake o HORIBA | 4 |
Pantalla táctil | 1 | |
Controlador de temperatura | 1 | |
Calentador FEC | 1 | |
Revestimiento de cuarzo | 1 | |
Documentos técnicos | Especificaciones y documentación de componentes | 1 juego |