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| Parámetro | Especificación |
|---|---|
| Tasa de flujo de muestreo | 1 a 10 L/min (ajustable) |
| Temperatura de la trampa fría del semiconductor | -20 °C ± 1 °C (estándar), 0-30 °C (rango común) |
| Temperatura del dispositivo catalítico | Se aplicarán las siguientes medidas: |
| Capacidad del agua de la trampa fría | > 100 ml |
| Captura de la eficiencia | ≥95% (HTO), ≥92% (HT, CH3T) |
| Tiempo de muestreo continuo | 0 a 18 horas (configurable por el usuario) |
| Interfaz de control | Display LCD con modos de operación local y remoto |
| Sistema de alarma | Monitoreo en tiempo real con señales de alarma continuas para detectar anomalías en el equipo |
| Gestión de datos | Funcionalidad de base de datos para consultas de datos históricos y generación de informes |