RO5200 Ta1 Objetivo de rotación de tántalo Objetivo de tubo de tántalo 100 mm Para CVD PVD

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Información sobre el producto:

 

El objetivo del tubo de tántalo es un objetivo de tántalo tubular, también conocido como objetivo giratorio de tántalo.

 

NombreObjetivo de rotación de tántalo Objetivo de tubo de tántalo
Purificación≥ 99,95%
GradoSe aplicarán las siguientes medidas:
Densidad16.68 g/cm3
Peso atómico180.94788
Método de pulverizaciónD.C.
Conductividad térmica57 W/m.K
Coeficiente de expansión térmica6.3 x 10-6 /K
TamañoOD: 20 ~ 300 mm espesor de la pared: ≥ 0,5 mm

 

 

Aplicación del objetivo de rotación Ta:

 

El objetivo del tubo de tántalo es una materia prima de tántalo de alta pureza para deposición de pulverización, que se puede utilizar en semiconductores,Display de deposición química de vapor (CVD) y deposición física de vapor (PVD) y aplicaciones ópticasLos detalles son los siguientes:


- para semiconductores;
-Displays de deposición química de vapor (CVD);
-Displays de deposición física de vapor (PVD);
- Aplicaciones ópticas.

 

Nota:Proporcionamos servicios personalizados. Si no puede encontrar el objetivo que desea, póngase en contacto con nosotros directamente. Podemos personalizar según sus requisitos.

 

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