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Si se compara con el vidrio borosilicato, la sílice fundida no tiene aditivos; por lo tanto, existe en su forma pura, SiO2.La sílice fundida tiene una mayor transmisión en el espectro infrarrojo y ultravioleta en comparación con el vidrio normalLa sílice fundida se produce mediante la fusión y re-solidificación del SiO2 ultrapuro.La sílice sintética fundida, por otro lado, está hecha de precursores químicos ricos en silicio como SiCl4 que se gasifican y luego se oxidan en una atmósfera de H2 + O2.El polvo de SiO2 formado en este caso se funde con sílice en un sustrato.
Pureza muy alta (≥ 99,99% SiO2)
Ideal para procesos sensibles a la contaminación en semiconductores
y fotónica.
Amplio rango de temperaturas
Resiste a ambientes térmicos criogénicos > 1100 °C sin
deformación.
Transmisibilidad UV e IR excepcional
Ofrece una excelente claridad óptica desde el ultravioleta profundo
(DUV) hasta el infrarrojo cercano (NIR).
Baja expansión térmica
Asegura la estabilidad dimensional en el ciclo térmico, reduciendo
la tensión de los componentes.
Inertitud química
Resistente a la mayoría de los ácidos, bases y disolventes;
perfecto para condiciones de proceso duras.
Control de calidad de la superficie
Disponible en formatos ultra suaves y pulidos de doble cara para
aplicaciones ópticas y MEMS.
Las obleas de cuarzo fundido se producen a través de los siguientes pasos:
Selección de la materia prima:Se seleccionan y purifican arenas o cristales naturales de cuarzo de alta pureza.
Fusión y fusión:Los gránulos de cuarzo se funden a ~ 2000 °C en hornos eléctricos bajo atmósfera controlada para eliminar burbujas e impurezas.
Solidificación y formación de bloques:El material fundido se enfría en lingotes o bloques sólidos.
Se trata de un sistema de corte de wafer.Las sierras de alambre de precisión cortan el cuarzo fundido y solidificado en trozos en blanco.
La limpieza y el pulido:Las superficies de las obleas son molidas, lapeadas y pulidas para lograr un espesor y una planitud exactos.
Limpieza e inspección:Las obleas finales son limpiadas por ultrasonido en salas limpias de la clase 100/1000 e inspeccionadas para detectar defectos.
Las obleas de cuarzo fundido se utilizan en industrias que requieren transparencia óptica, durabilidad térmica y resistencia química:
Ofras portadoras en procesos de alta temperatura
Máscaras de difusión e implantación iónica
Plataformas de grabado, deposición e inspección
Substratos para recubrimientos ópticos
Ventanas láser y divisores de haz
Componentes ópticos UV e IR de precisión
Portadores de muestras para instrumentos analíticos
Plataformas de análisis microfluídico y químico
Substratos de reacción a altas temperaturas
Fabricación de plaquetas de horno para la fabricación de chips LED
Substratos en I+D de células fotovoltaicas
Específico | Unidad | 4" de largo. | 6" de largo | 8" de largo | 10" de largo. | 12" de largo. |
---|---|---|---|---|---|---|
Diámetro / tamaño (o cuadrado) | En el caso de los | 100 | 150 | 200 | 250 | 300 |
Término de la prueba | En el caso de los | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 |
El grosor | En el caso de los | 0.10 o más | 0.30 o más | 0.40 o más | 0.50 o más | 0.50 o más |
Planta de referencia primaria | En el caso de los | 32.5 | 57.5 | Las demás: | Las demás: | Las demás: |
El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero es el valor de las emisiones de gases de efecto invernadero de los gases de efecto invernadero. | Mm | Se trata de un5 | Se trata de un5 | Se trata de un5 | Se trata de un5 | Se trata de un5 |
TTV | Mm | Sección 2 | Se trata de: | Se trata de: | Sección 3 | Sección 3 |
- ¿ Por qué? | Mm | ± 20 | ± 30 | ± 40 | ± 40 | ± 40 |
La velocidad warp. | Mm | ≤ 30 años | ≤ 40 | ≤ 50 | ≤ 50 | ≤ 50 |
El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero se calculará en función de las emisiones de gases de efecto invernadero. | % | ≥95% | ≥95% | ≥95% | ≥95% | ≥95% |
Redondeo del borde | En el caso de los | Conforme a la norma SEMI M1.2 / se refiere a la IEC62276 | ||||
Tipo de superficie | Lustrado de un solo lado / Lustrado de dos lados | |||||
Lado pulido Ra | nm | ≤ 1 año | ≤ 1 año | ≤ 1 año | ≤ 1 año | ≤ 1 año |
Criterios del lado trasero | Mm | general 0,2-0,7 o personalizado |
Estructura de vidrioelimina la birefringencia que se encuentra en el cuarzo cristalino
No hay eje de cristal¢ideal para el comportamiento isotrópico en aplicaciones ópticas
Superficie lisa y no porosapara una mejor limpieza y adhesión del revestimiento
Con un contenido de aluminio superior a 10%, pero no superior a 10% en peso
Grados con bajo contenido de OHdisponible para una mayor durabilidad UV
P1: ¿Cuál es la diferencia entre el cuarzo fundido y la sílice
fundida?
Ambos se refieren al SiO2 amorfo, pero la sílice fundida a menudo
implica vidrio de alta pureza producido sintéticamente, mientras
que el cuarzo fundido se deriva del cuarzo natural.Sus propiedades
son casi idénticas en la mayoría de las aplicaciones.
P2: ¿Se pueden utilizar obleas de cuarzo fundido en ambientes de
alto vacío?
Sí, el cuarzo fundido tiene una salida de gas extremadamente baja y
una alta estabilidad térmica, lo que lo hace ideal para sistemas de
vacío y aplicaciones espaciales.
P3: ¿Son estas obleas adecuadas para aplicaciones con láser UV?
El cuarzo fundido exhibe una excelente transmisión en el rango UV
profundo (hasta ~ 185 nm), lo que lo hace adecuado para óptica
láser DUV y sustratos de fotomasca.
P4: ¿Ofrece la personalización?
Sí, fabricamos obleas basadas en los requisitos del cliente
incluyendo diámetro, grosor, acabado superficial y patrones de
corte láser.