Máquina de recubrimiento por pulverización catódica DC y MF Magnetron Soluciones de recubrimiento PVD en negro profundo

Número de modelo:RTAS1250
Lugar del origen:Hecho en China
Cantidad de orden mínima:1 set
Condiciones de pago:CARTA DE CRÉDITO, D/A, D/P, T/T
Capacidad de la fuente:2 sistemas por mes
Plazo de expedición:24 semanas
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Dirección: ZONA INDUSTRIAL DEL CAMINO DE 819# SONGWEI (N.) SONGJIANG, SHANG HAI, CHINA 201613
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Máquina de recubrimiento por pulverización catódica DC y MF, soluciones de recubrimiento PVD negro profundo


Revestimiento de pulverización catódica de magnetrón


recubrimiento de plasma
La pulverización catódica con magnetrón es un proceso de recubrimiento de plasma mediante el cual el material pulverizado se expulsa debido al bombardeo de iones a la superficie objetivo.La cámara de vacío de la máquina de recubrimiento por PVD se llena con un gas inerte, como el argón.Al aplicar un alto voltaje, se crea una descarga luminiscente, lo que resulta en la aceleración de los iones hacia la superficie del objetivo y un recubrimiento de plasma.Los iones de argón expulsarán materiales de pulverización catódica de la superficie objetivo (pulverización catódica), lo que dará como resultado una capa de recubrimiento pulverizada sobre los productos frente al objetivo.
La tecnología de pulverización catódica con magnetrones se caracteriza por:

  • Un objetivo enfriado por agua, por lo que se genera poco calor de radiación
  • Casi cualquier material objetivo metálico se puede pulverizar sin descomposición
  • Los materiales no conductores se pueden pulverizar usando radiofrecuencia (RF)
    o potencia de frecuencia media (MF)
  • Los recubrimientos de óxido se pueden pulverizar (pulverización reactiva)
  • Excelente uniformidad de capa
  • Recubrimientos pulverizados muy suaves (sin gotas)
  • Los cátodos (de hasta 2 metros de largo) se pueden colocar en cualquier posición, por lo tanto a gran altura
    flexibilidad del diseño de equipos de pulverización catódica
MODELORTAC1250-SPMF
TECNOLOGÍASputtering de magnetrón MF + Recubrimiento iónico
MATERIALAcero inoxidable (S304)
TAMAÑO DE LA CÁMARAΦ1250 * H1250mm
TIPO DE CÁMARACilindro, vertical, 1 puerta
SISTEMA DE SPUTTERDiseño exclusivo para deposición de película negra delgada
MATERIAL DE DEPÓSITOAluminio, plata, cobre, cromo, acero inoxidable,
Níquel
FUENTE DE DEPÓSITO2 juegos de objetivos de pulverización cilíndrica MF + 8 fuentes de arco catódico dirigidas + fuente de iones para opcional
GASMFC- 4 vías, Ar, N2, O2, C2H2
CONTROLPLC (controlador lógico programable) +
SISTEMA DE BOMBASV300B - 1 juego (Leybold)
WAU1001 - 1 juego (Leybold)
D60T-1 juego (Leybold)
Bombas turbomoleculares: 2* F-400/3500
PRETRATAMIENTOFuente de alimentación polarizada: 1*36 KW
SISTEMA DE SEGURIDADNumerosos enclavamientos de seguridad para proteger a los operadores
ENFRIAMIENTOAgua fría
ENERGÍA ELÉCTRICA480 V/3 fases/60 HZ (compatible con EE. UU.)
460 V/3 fases/50 Hz (compatible con Asia)
380V/3 fases/50HZ (Cumple EU-CE)
HUELLAL3000*W3000*H2000mm
PESO TOTAL7,0 toneladas
HUELLA(L*An*Al) 5000*4000 *4000 MM
TIEMPO DEL CICLO30~40 minutos (dependiendo del material del sustrato,
geometría del sustrato y condiciones ambientales)
POTENCIA MÁX..155 kilovatios
ENERGÍA PROMEDIO
CONSUMO (APROX.)
75 kilovatios

Comuníquese con nosotros para obtener más especificaciones, Royal Technology tiene el honor de brindarle soluciones de recubrimiento total.


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Máquina de recubrimiento por pulverización catódica DC y MF Magnetron Soluciones de recubrimiento PVD en negro profundo

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