Magnetrón de la frecuencia intermedia que farfulla la máquina de la vacuometalización de PVD, unidad de la deposición de la farfulla de la frecuencia intermedia de la lata - royal-source

Magnetrón de la frecuencia intermedia que farfulla la máquina de la vacuometalización de PVD, unidad de la deposición de la farfulla de la frecuencia intermedia de la lata

Número de modelo:RTAS1215
Lugar del origen:Hecho en China
Cantidad de orden mínima:1
Plazo de expedición:16 semanas
Detalles de empaquetado:1 * 40HQ
Tecnología:Farfulla del magnetrón de la frecuencia media de la frecuencia intermedia
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Dirección: ZONA INDUSTRIAL DEL CAMINO DE 819# SONGWEI (N.) SONGJIANG, SHANG HAI, CHINA 201613
Proveedor Último login veces: Dentro de 1 Horas
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Detalles del producto

 

Máquina de capa de la farfulla del magnetrón de PVD frecuencia intermedia, sistema de la farfulla de la frecuencia intermedia, unidad de la deposición de la farfulla de la frecuencia intermedia de la lata

 

 

La máquina de pintar RT1215-SPMF de la farfulla de la frecuencia intermedia Mangetron es d esigned para el cobre, alumunium, plástico, galjanoplastia conductora de la capa de la película de la placa de circuito del metal. Puede condensar la película fina nana en los substratos. Excepto el AG que farfulla, puede también depositar Ni, Au, AG, Al, Cr, SS316L.

 

La máquina de RTSP1215-MF está instalada con 2 pares de cátodos de la farfulla de la frecuencia intermedia en cámara, y 1 sistema de la fuente de ion de la capa del ánodo para la limpieza del bombardeo del plasma antes de la deposición de la película de PVD.

 

 

La fuente de ion es original de la compañía de Gencoa, las propiedades:

 

1. Campos magnéticos optimizados para producir un haz colimado del plasma en las presiones estándar de la farfulla

2. Regulación automatizada para que el gas mantenga la corriente y el voltaje constantes – control del auto del multi-gas

3. Ánodo y cátodo del grafito para proteger el substrato contra la contaminación y para proporcionar componentes duraderos

4. Aislamiento eléctrico estándar del RF en todas las fuentes de ion

5. Enfriamiento indirecto del ánodo y del cátodo – transferencia rápida de piezas

6. Transferencia fácil de las piezas del cátodo para proporcionar las trampas magnéticas múltiples para la operación de tensión inferior, o un haz enfocado

7. El voltaje reguló la fuente de alimentación con la reacción del ajuste del gas para mantener la misma corriente siempre

 

 

Disposición del equipo de la capa de la farfulla de RTSP1215-MF frecuencia intermedia

 

 

Usos del equipo de la capa de la farfulla de RTSP1215-MF frecuencia intermedia:

 

1. Disponible en los substratos de: Hojas del plástico, del polímero, de cristal y de cerámica, acero inoxidable, hoja de cobre, tablero de aluminio etc.

 

2. Para generar la película nana tenga gusto: Lata, tic, TiCN, Cr, CrC, CrN, Cu, AG, Au, Ni, Al etc.

 

 

Características del diseño del equipo de la capa de la farfulla de RT1215-SPMF frecuencia intermedia:

 

1. Diseño robusto, bueno para el espacio limitado del sitio

2. De fácil acceso para el mantenimiento y la reparación

3. Sistema de bombeo rápido para la alta producción

4. El recinto eléctrico estándar del CE, estándar de la UL está también disponible.

5. Ejecución exacta de la fabricación

6. Funcionamiento estable para garantizar la producción de alta calidad de la película.

 

Situación de trabajo del cilindro o de la máquina planar de la farfulla de la frecuencia intermedia

 

 

Especificaciones del equipo de la capa de la farfulla de RT1215-SPMF frecuencia intermedia: 

 

MODELORT1215-SPMF
MATERIALAcero inoxidable (S304)
TAMAÑO DE LA CÁMARAΦ1200*1500mm (h)
TIPO DE LA CÁMARAestructura 1-door, vertical
SOLO PAQUETE DE LA BOMBABomba rotatoria de VaneVacuum
Bomba de vacío de raíces
Bomba molecular de la suspensión magnética
Bomba de vacío rotatoria de dos etapas de la paleta
TECNOLOGÍAMagnetrón que farfulla, fuente de la frecuencia intermedia de ion linear
FUENTE DE ALIMENTACIÓNFuente de alimentación de la farfulla + fuente de alimentación + fuente de ion diagonales
FUENTE DE LA DEPOSICIÓNcátodos de la farfulla de la frecuencia intermedia de 2 pares + fuente de ion
CONTROLPantalla de PLC+Touch
GASGas metros de flujo total (AR, N2, C2H2, O2) argón, nitrógeno y Ethyne, oxígeno
SISTEMA DE SEGURIDADDispositivos de seguridad numerosos para proteger operadores y el equipo
ENFRIAMIENTOAgua de enfriamiento
LIMPIEZADescarga de resplandor/fuente de ion
MÁXIMO DEL PODER.120KW
CONSUMO DE ENERGÍA MEDIA70KW

 

Éntrenos en contacto con por favor para más especificaciones, tecnología real se honra para proporcionarle soluciones totales de la capa.

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