Mediados de - máquina de capa de la farfulla del magnetrón de la frecuencia, bañadora de la farfulla de la frecuencia intermedia, sistema de la deposición de vacío de la farfulla

Número de modelo:RTSP1212-MF
Lugar del origen:Hecho en China
Cantidad de orden mínima:1 set
Condiciones de pago:CARTA DE CRÉDITO, D/A, D/P, T/T
Capacidad de la fuente:6 sistemas por mes
Plazo de expedición:12 semanas
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Dirección: ZONA INDUSTRIAL DEL CAMINO DE 819# SONGWEI (N.) SONGJIANG, SHANG HAI, CHINA 201613
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Sistema de la farfulla de la máquina de capa de la farfulla del magnetrón de la frecuencia media/frecuencia intermedia  

 

 

 

La vacuometalización de la farfulla del magnetrón es un tipo de menthod del tratamiento superficial de galjanoplastia del ion de PVD. Puede ser utilizada para la producción de películas que conducen o no que conducen, en muchos tipos materiales: metales, vidrio, de cerámica, plástico, aleación del metal. El concepto de la deposición de la farfulla: se reduce el material de revestimiento (blanco, también nombrada cátodo) y los pedazos del trabajo (substratos, también llamados ánodo) se ponen en la cámara de vacío y la presión. La farfulla es iniciada poniendo la blanco bajo voltaje differintial e introduciendo el gas del argón que forma los iones del argón (descarga de resplandor). Los iones del argón aceleran hacia la blanco de proceso y desplazan los átomos de la blanco. Estos átomos de la farfulla después se condensan sobre el substrato y forman capa muy fina y alta de la uniformidad. Los diversos colores pueden ser alcanzados introduciendo los gases reactivos como, el nitrógeno, el oxgen, o el acetileno en los gass de la farfulla durante proceso de la capa.

 

Modelos de la farfulla del magnetrón: DC que farfulla, frecuencia intermedia que farfulla, farfulla del RF

 

¿Qué la frecuencia intermedia está farfullando?

 

Comparado con DC y el RF que farfullaban, la frecuencia media que farfullaba se ha convertido en una técnica principal de la farfulla de la película fina para la producción en masa de la capa, particularmente para la deposición de la película de las capas dieléctricas y no-conductoras de la película en superficies tales como capas ópticas, paneles solares, capas múltiples, película etc. del material compuesto.

Está substituyendo la farfulla del RF debido a ella actuó con el kilociclo bastante que el megaciclo para una tarifa de deposición mucho más rápida y también puede evitar el envenenamiento de la blanco durante la deposición compuesta de la película fina como DC.

 

Las blancos de la farfulla de la frecuencia intermedia existieron siempre con los dos-sistemas. Dos cátodos se utilizan con una corriente de la CA cambiada hacia adelante y hacia atrás entre ellas cuáles limpian la superficie de la blanco con cada revocación para reducir el aumento de la carga en los dieléctricos que ése lleva a la formación de arcos que puede arrogar gotitas en el plasma y prevenir crecimiento de película fina uniforme--- cuál es lo que llamamos Target Poisoning.

 

Funcionamiento de sistema de la farfulla de la frecuencia intermedia

1. Última presión del vacío: mejore que los torres 5.0×10-6.

2. Presión de funcionamiento del vacío: Torres 1.0×10-4.

3. Tiempo de Pumpingdown: a partir de 1 atmósfera a 1.0×10-4 Torr≤ 3 minutos (la temperatura ambiente, seca, limpia y vacia la cámara)

4. Metalización del material (que farfulla + evaporación del arco): Ni, Cu, AG, Au, Ti, Zr, Cr, lata, tic, TiAlN, CrN, CrC, etc.

5. Modelo de funcionamiento: Automáticamente /Semi-Auto/ lleno manualmente

 

Estructura de sistema de la farfulla de la frecuencia intermedia

La máquina de la vacuometalización contiene el sistema de la llave terminado enumerado abajo:

1. Cámara de vacío

2. Sistema de bombeo de vacío de Rouhging (paquete de la bomba del forro)

3. Sistema de bombeo de alto vacío (magnético bomba molecular de la suspensión)

4. Sistema eléctrico del control y de la operación

5. Sistema de la instalación de Auxiliarry (subsistema)

6. Sistema de la deposición: Cátodo de la farfulla de la frecuencia intermedia, fuente de alimentación de la frecuencia intermedia, fuente de ion diagonal de la fuente de alimentación para opcional

 

Especificaciones del sistema RTSP1212-MF de la farfulla de la frecuencia intermedia

 

MODELORTSP1212-MF
TECNOLOGÍAMagnetrón de la frecuencia intermedia que farfulla + galjanoplastia del ion
MATERIALAcero inoxidable (S304)
TAMAÑO DE LA CÁMARAΦ1250*H1250mm
TIPO DE LA CÁMARACilindro, vertical, 1 puerta
SISTEMA DE LA FARFULLAExclusivamente diseño para la deposición negra fina de la película
MATERIAL DE LA DEPOSICIÓNAluminio, plata, cobre, Chrome, acero inoxidable,
Níquel
FUENTE DE LA DEPOSICIÓN2 sistemas que la farfulla cilíndrica de la frecuencia intermedia apunta + 8 dirigieron fuentes catódicas del arco
GASManeras MFC 4, AR, N2, O2, C2H2
CONTROLPLC (regulador programable de la lógica) +
SISTEMA DE BOMBASV300B - 1 sistema (Leybold)
WAU1001 - 1 fija (Leybold)
D60T- 2sets (Leybold)
Bombas moleculares de Turbo: 2* F-400/3500
TRATAMIENTO PREVIOFuente de alimentación diagonal: Kilovatio 1*36
SISTEMA DE SEGURIDADDispositivos de seguridad numerosos para proteger a operadores
ENFRIAMIENTOAgua fría
PODER ELÉCTRICO480V/3 phases/60HZ (los E.E.U.U. obedientes)
460V/3 phases/50HZ (Asia obediente)
380V/3 phases/50HZ (EU-CE obediente)
HUELLAL3000*W3000*H2000mm
PESO TOTAL7,0 T
HUELLA(L*W*H) 5000*4000 *4000 MILÍMETRO
DURACIÓN DE CICLO30~40 minutos (dependiendo del material del substrato,
geometría del substrato y condiciones ambientales)
MÁXIMO DEL PODER.155 KILOVATIOS

PODER MEDIO

CONSUMO (APROXIMADAMENTE)

75 KILOVATIOS

 

 

 

 

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