Máquina de la galjanoplastia de CrN PVD, equipo catódico de la galjanoplastia del arco, alto sistema de capa de la película de la dureza

Capas duras de la máquina/PVD CrN de la galjanoplastia de CrN PVD

Las capas duras, formadas por los procesos físicos reactivos de (PVD) de la deposición de vapor, sobre la base de tecnología del plasma, están llegando a ser ampliamente utilizadas en las industrias de la herramienta.

Para conseguir el más duro, la capa tensa, desgaste-y resistente a la corrosión, la temperatura del substrato debe ser tan alta como sea posible, y el bombardeo concurrente por las partículas atómico-clasificadas enérgicas (Ion-galjanoplastia) durante la deposición reactiva debe ser utilizado. Por ejemplo, en la capa de los taladros de acero templado, el substrato se calienta a 450℃ o así que antes de que se comience la deposición. Esto que precalienta se puede hacer por el bombardeo del ion, que también farfullan limpian la superficie, o usando otras fuentes de calor en la cámara de la deposición.
Durante el proceso de la capa dura de PVD para las herramientas, no cambia las dimensiones físicas de la pieza perceptiblemente.
El gas del plasma usado para la deposición reactiva es una mezcla de argón, de nitrógeno y de ethyne. La composición de las capas es variada variando la mezcla de gases.

Las fuentes mas comunes de la vaporización para la galjanoplastia del ion de capas duras son desequilibrado-magnetrón - fuentes de la farfulla, y fuentes de la catódico-arco-vaporización. El bombardeo durante la deposición es alcanzado comúnmente aplicando un prejuicio negativo (- 200 a -300 voltios) al substrato y acelerando los iones positivos a la superficie de un plasma. Un alto ratio de iones de bombardeo a los átomos de depósito es importante para densifying el material de depósito. En la fuente de la desequilibrado-magnetrón-farfulla, pocos de los átomos farfullados se ionizan; pero en las fuentes catódicas del arco, un alto porcentaje de los átomos vaporizados se ioniza. Porque éstos “filman los iones” tienen una masa más alta que los iones del gas, pueden mejor farfullar superficies y densify las películas por el “martilleo atómico.”

Las capas industriales de la herramienta son típicamente 1,5 a 4 micrones en grueso.

Referencia general: Guías de la educación al proceso de la vacuometalización, escrito por Donald M. Mattox, 2009 por la sociedad de la máquina de pintar del vacío.

Usos duros de las capas de CrN:

Las capas duras están llegando a ser ampliamente utilizadas en la capa decorativa y las herramientas industriales (HSS o HSC
materiales). Las capas son más resistencia al desgaste y la corrosión, satisfacer las herramientas funciona más confiablemente y por un tiempo de una vida más larga, 2-3 veces más de largo que sin la capa en general.
Herramientas de corte: (Capas sugeridas: AlTiN/TiAlN, TiCN y lata)

El aserrar, moliendo, parte movible del CNC (que da vuelta difícilmente con), perforación, el fresar y cortador etc. del engranaje.
Perforación y formación (capas sugeridas: CrN, TiCN y lata)
Sellado del metal
El moldear (moldeo por inyección plástico) -- (Capas sugeridas: TiCN y lata)
A presión la fundición
Componentes de la precisión
Otros, como: máquinas-herramientas, máquina, usos texitile etc. el decubrir, el volver a afilar.

Características de la máquina de la galjanoplastia de CrN PVD:

1. Los sistemas de la galjanoplastia de CrN PVD consisten en: cámara de vacío, bombas de vacío, fuentes del arco, eje y enchufe, estructura de las plantillas, calefacción y enfriamiento, agua y gas (distribución), control y sistemas eléctricos etc. de la operación.
2. uso: capas funcionales industriales para las herramientas duras.
películas 3.Coating: Lata, tic, CrN, AlTiN etc.
ventajas 4.Coating: alta dureza y desgaste-resistencia y corrosión, crecientes tiempo de la vida de la herramienta y calidad mejorada del objeto.

Ventajas técnicas de la máquina de la galjanoplastia de CrN PVD
1. fondo fuerte de la ayuda del R&D, foco sobre los detalles de la fabricación.
2. fuentes catódicas dirigidas grandes del arco para reducir gotitas durante el depostion.
3. el sistema de control exacto de calefacción, la desviación es ±5℃, cuando la superficie del substrato está hasta 550℃.
4. tratamiento previo de alta densidad avanzado del plasma.

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