Estañe la máquina de capas dura con resistencia a la corrosión excelente

Equipo duro funcional de las capas de la máquina de capa de la película fina de PVD/PVD en las herramientas

Las capas duras, formadas por los procesos físicos reactivos de (PVD) de la deposición de vapor, sobre la base de tecnología del plasma, están llegando a ser ampliamente utilizadas en las industrias de la herramienta.
Para conseguir el más duro, la capa tensa, desgaste-y resistente a la corrosión, la temperatura del substrato debe ser tan alta como sea posible, y el bombardeo concurrente por las partículas atómico-clasificadas enérgicas (Ion-galjanoplastia) durante la deposición reactiva debe ser utilizado. Por ejemplo, en la capa de los taladros de acero templado, el substrato se calienta a 450℃ o así que antes de que se comience la deposición. Esto que precalienta se puede hacer por el bombardeo del ion, que también farfullan limpian la superficie, o usando otras fuentes de calor en la cámara de la deposición.
Durante el proceso de la capa dura de PVD para las herramientas, no cambia las dimensiones físicas de la pieza perceptiblemente.
El gas del plasma usado para la deposición reactiva es una mezcla de argón, de nitrógeno y de ethyne. La composición de las capas es variada variando la mezcla de gases.

Las fuentes mas comunes de la vaporización para la galjanoplastia del ion de capas duras son desequilibrado-magnetrón - fuentes de la farfulla, y fuentes de la catódico-arco-vaporización. El bombardeo durante la deposición es alcanzado comúnmente aplicando un prejuicio negativo (- 200 a -300 voltios) al substrato y acelerando los iones positivos a la superficie de un plasma. Un alto ratio de iones de bombardeo a los átomos de depósito es importante para densifying el material de depósito. En la fuente de la desequilibrado-magnetrón-farfulla, pocos de los átomos farfullados se ionizan; pero en las fuentes catódicas del arco, un alto porcentaje de los átomos vaporizados se ioniza. Porque éstos “filman los iones” tienen una masa más alta que los iones del gas, pueden mejor farfullar superficies y densify las películas por el “martilleo atómico.”

Las capas industriales de la herramienta son típicamente 1,5 a 4 micrones en grueso.

Referencia general: Guías de la educación al proceso de la vacuometalización, escrito por Donald M. Mattox, 2009 por la sociedad de la máquina de pintar del vacío.

Usos:

Las capas duras están llegando a ser ampliamente utilizadas en la capa decorativa y las herramientas industriales (HSS o HSC
materiales). Las capas son más resistencia al desgaste y la corrosión, satisfacer las herramientas funciona más confiablemente y por un tiempo de una vida más larga, 2-3 veces más de largo que sin la capa en general.
Herramientas de corte: (Capas sugeridas: AlTiN/TiAlN, TiCN y lata)

El aserrar, moliendo, parte movible del CNC (que da vuelta difícilmente con), perforación, el fresar y cortador etc. del engranaje.
Perforación y formación (capas sugeridas: CrN, TiCN y lata)
Sellado del metal
El moldear (moldeo por inyección plástico) -- (Capas sugeridas: TiCN y lata)
A presión la fundición
Componentes de la precisión
Otros, como: máquinas-herramientas, máquina, usos texitile etc. el decubrir, el volver a afilar.

Descripción de la máquina de capa de la película fina

1. Los sistemas del equipo de RT-HAC consisten en: cámara de vacío, bombas de vacío, fuentes del arco, eje y enchufe, estructura de las plantillas, calefacción y enfriamiento, agua y gas (distribución), control y sistemas eléctricos etc. de la operación.
2. uso: capas funcionales industriales para las herramientas duras.
películas 3.Coating: Lata, tic, CrN, AlTiN etc.
ventajas 4.Coating: alta dureza y desgaste-resistencia y corrosión, crecientes tiempo de la vida de la herramienta y calidad mejorada del objeto. “
 

PVD (deposición de vapor física) es una tecnología ampliamente utilizada y avanzada del tratamiento superficial en el mundo actualmente. Puede conseguir realmente la capa del micrómetro y el tratamiento superficial ambiental no contaminante. En un estado de vacío, el material de revestimiento es vaporizado por método físico del ion y depositado en una capa en la superficie del producto.
Características de la capa de PVD:

(1) adherencia excelente: La capa de PVD tiene la altas adherencia y durabilidad. Puede ser aplicada al doblez a diversos ángulos sin agrietarse o romper con almádena. Puede ser utilizada para las decoraciones interiores y exteriores.
(2) antioxidación, resistencia a la corrosión: las propiedades químicas estables, en el ambiente normal, interior y al aire libre pueden ser antioxidante, no fácil descolorarse, mantienen brillo del metal.
(3) aumenta la dureza superficial: la dureza de la película medida por el micrófono, hasta HV2250
El tipo y el grueso de la capa de capa
(1) la especie de la capa:
La tecnología de la capa de PVD puede preparar la película del nitruro (lata [oro titanium), ZRN [oro] del circonio, CrN, TiAlN] y la película del carburo (tic, TiCN), y de revestimiento de óxido (TiO, etc.).
(2) el grueso de la capa de la película:
El grueso de la película es micrómetro, y el grueso de la película de la capa es generalmente 0,3 u m~0.5 MU

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El modelo RTAS, el arco y el equipo de serie integrado de pulverización pueden producir películas negras y de bronce altamente reflectantes específicamente para recubrimientos decorativos de alta calidad.

RTSP1200-FCEV, Es un sistema de pulverización con proceso PECVD para depositar una película delgada en módulos de energía de pilas de combustible de hidrógeno.Los vehículos de pila de combustible son la última tecnología para la próxima generación de coches respetuosos con el medio ambienteLa principal ventaja y el progreso tecnológico en comparación con las baterías de uso común como las células secas necesitan someterse a un proceso de recarga recurrente.pero los módulos de energía de la célula de combustible de hidrógeno sólo requieren reacción de hidrógeno y oxígeno para generar energía para la conducción.

RTSP1200-DPC,Este sistema de recubrimiento se utiliza exclusivamente para el proceso de sustratos cerámicos DPC (Direct Plating Copper). Los sustratos cerámicos DPC se utilizan ampliamente en varias aplicaciones:Por ejemplo, en LED de alto brillo para aumentar la longevidad debido a su alto rendimiento de radiación térmica, equipos de semiconductores, en la comunicación inalámbrica de microondas, electrónica militar, diversos sustratos de sensores, aeroespacial, transporte ferroviario, energía eléctrica y mucho más.

RT-CsI950, planta de revestimiento por evaporación se aplica a la deposición de película de CsI para dispositivos de imagen de rayos X. Es una técnica avanzada para evaporar CsI en la pantalla para crear imágenes de alta calidad.El rendimiento de alta resolución permite que esta aplicación sea extremadamente eficiente y perturbadora en el instrumento médico, industria de la energía nuclear, control e inspección de seguridad, materias de física de alta energía y más.

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