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Platos de fruta de acero inoxidables Ion Plating Machine/máquina de capa de TiN Gold Steel Dishes Vacuum
La manguera de acero inoxidable Ion Plating Machine del grifo está con la tecnología de la descarga de arco del vacío de PVD para evaporar blancos y para condensar los iones en superficie del producto. La fuente de la evaporación (cátodo) se enciende en un ambiente del vacío que forma una descarga de arco independiente económicamente con el ánodo que lanza los iones del material de blanco del punto radiante del arco catódico. Debido al foco actual local, el calor generó una ionización localizada del material del cátodo que, cuando está combinado con el gas de reacción bajo acción del prejuicio del objeto, los depósitos una película plateada en la superficie del objeto.
Manguera de acero inoxidable Ion Plating Machine Specification del grifo
1. Cámara vertical, refrigeración por agua del bocadillo, hecha del acero inoxidable SUS304
2. Sistema de bombeo: bomba mechnical de pump+roots pump+diffusion o bomba molecular de la bomba +maintain
3. Actúe en la pantalla táctil, controlada por el PLC, manual y automático
4. Alarma en las circunstancias inusuales y tomar medidas seguras
5. Exhibición en tiempo real los diversos datos, control automático del proceso de producción, almacenamiento automático de parámetros.
6. Fuente de Pules, fuente del prejuicio del pulso
7. Fuente de ion de la capa del ánodo para opcional.
MODELO | RTAC1215 | ||||||
TECNOLOGÍA | plasma, galjanoplastia del ion, blanco cilíndrica | ||||||
MATERIAL | Acero inoxidable (S304) | ||||||
TAMAÑO DE LA CÁMARA | Φ1200*1500mm (h) | ||||||
TIPO DE LA CÁMARA | Cilindro, vertical, 1 puerta | ||||||
SISTEMA DE EVAPORTATION | Cátodos multi del arco | ||||||
MATERIAL DE LA DEPOSICIÓN | Titanio, plata, cobre, Chrome, acero inoxidable, aluminio, níquel | ||||||
CONTROL | PLC (regulador programable de la lógica) + pantalla táctil | ||||||
SISTEMA DE BOMBA | Bomba de vacío rotatoria de Pistonr SV300B *2 | ||||||
Vane Vacuum Pump rotatoria D60C *1 | |||||||
Bomba de vacío de raíces WAU1001 *1 | |||||||
Bomba molecular KYKY F3500/400 *2 | |||||||
TRATAMIENTO PREVIO | Limpieza diagonal del plasma | ||||||
SISTEMA DE SEGURIDAD | Dispositivos de seguridad numerosos para proteger operadores y el equipo | ||||||
ENFRIAMIENTO | Agua fría | ||||||
PODER ELÉCTRICO | 480V/3 phases/60HZ (los E.E.U.U. obedientes) | ||||||
460V/3 phases/50HZ (Asia obediente) | |||||||
380V/3 phases/50HZ (EU-CE obediente) | |||||||
HUELLA | L6000*W3400*H2500mm | ||||||
PESO TOTAL | 7 T | ||||||
DURACIÓN DE CICLO | 40 minutos (dependiendo del material del substrato, de la geometría del substrato y de ambiental condiciones) | ||||||
MÁXIMO DEL PODER. | 60KW | ||||||
CONSUMO DE ENERGÍA MEDIA (APROXIMADAMENTE) | 40KW |
Éntrenos en contacto con por favor para más especificaciones, tecnología real se honra para proporcionarle soluciones de capa totales.