Sistema aumentado plasma de la deposición de vapor químico
Lugar del origen:China
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Miembro activo
Chongqing Chongqing China
Dirección:
Block 4, No. 5, Torch Ave, Jiulongpo District, Chongqing,400080 China
Proveedor Último login veces:
Dentro de 45 Horas
Detalles del producto
Perfil de la compañía
Detalles del producto
Índice principal del parámetro:
1. equipo: cámara de la deposición, sistema de bombeo molecular,
electrodos superiores y más bajos, sistema del control del sistema
de la trayectoria del gas, de la fuente de alimentación y de la
temperatura y de control del equipo
2. cámara de la deposición: Φ350XH350mm
3. electrodo superior: la toma uniforme de la capa multi, tamaño es
Φ150mm
4. electrodo: calefacción rotatoria, temperatura ambiente -600℃
ajustable, temperatura ≤±3℃, el sizeΦ 100m m
5.RF poder 500W, equipado del dispositivo a juego automático
6. toma de aire del trabajo del control del metro de flujo total
7. el sistema de control adopta control de la pantalla táctil +PLC
Sistema aumentado plasma de la deposición de vapor químico
Carro de la investigación
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