3 cabeza de exploración de concentración dinámica del laser de D 532nm 1064nm

Number modelo:DTJJ
Lugar del origen:China
Cantidad de orden mínima:1set
Condiciones de pago:T/T, Western Union
Capacidad de la fuente:1000set
Plazo de expedición:5-8days
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El galvo de concentración dinámico del laser 3D se aplica al corte del laser, laser que traza, soldadura de laser, perforando, fabricación aditiva, textura del molde, grabado de alivio, material-eliminación del auto-eje….Recurso disponible del laser: 355, 532,1064,10640nm etc.

 

Modelo:GO3 D-T Series
ProtocoloXY2-100
Factor de extensión del haz2.0X1.67X1.67X1.85X
Abertura entrada5.00m m6.00m m5.98m m7.18m m5.98m m7.18m m5.40m m6.48m m
Longitud de onda355nm532nm1064nm10600nm
2.a abertura del Galvo10m m12m m10m m12m m10m m12m m10m m12m m
Campo de marcado150*150-300*300
Un valor z más profundo se puede alcanzar usando una lente más grande de la F-theta.
Funcionamiento dinámico
Tiempo del error de seguimiento0.22ms0.36ms0.22ms0.36ms0.22ms0.36ms0.22ms0.36ms
Repetibilidad<22urad<22urad<22urad<22urad<22urad<22urad<22urad<22urad
Gaindrift80ppm/K80ppm/K80ppm/K80ppm/K80ppm/K80ppm/K80ppm/K80ppm/K
Offsetdrift30urad/K30urad/K30urad/K30urad/K30urad/K30urad/K30urad/K30urad/K
el 1% del completo0.30ms0.40ms0.30ms0.40ms0.30ms0.40ms0.30ms0.40ms
el 10% del completo0.80ms1.20ms0.80ms1.20ms0.80ms1.20ms0.80ms1.20ms
Ausencia de linealidad<0.9mrad<0.9mrad<0.9mrad<0.9mrad<0.9mrad<0.9mrad<0.9mrad<0.9mrad
Deriva a largo plazo durante 8 horas<0.3mrad<0.3mrad<0.3mrad<0.3mrad<0.3mrad<0.3mrad<0.3mrad<0.3mrad
Velocidad típica
Velocidad de marcado3000mm/s2500mm/s3000mm/s2500mm/s3000mm/s2500mm/s3000mm/s2500mm/s
Colocación de velocidad12m/s10m/s12m/s10m/s12m/s10m/s12m/s10m/s
Funcionamiento óptico
Desviación típica±0.39rad±0.39rad±0.39rad±0.39rad±0.39rad±0.39rad±0.39rad±0.39rad
Error del aumento<5mrad<5mrad<5mrad<5mrad<5mrad<5mrad<5mrad<5mrad
Compensación cero<5mrad<5mrad<5mrad<5mrad<5mrad<5mrad<5mrad<5mrad
Temperatura de funcionamiento10-40℃10-40℃10-40℃10-40℃10-40℃10-40℃10-40℃10-40℃
Almacenar temperatura-20-60℃-20-60℃-20-60℃-20-60℃-20-60℃-20-60℃-20-60℃-20-60℃
Requisitos de alimentación±15VDC, 3A±15VDC, 3A±15VDC, 3A±15VDC, 3A±15VDC, 3A±15VDC, 3A±15VDC, 3A

±15VDC, 3A

 

China 3 cabeza de exploración de concentración dinámica del laser de D 532nm 1064nm supplier

3 cabeza de exploración de concentración dinámica del laser de D 532nm 1064nm

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