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Substrato del Photomask

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 Substrato del Photomask

Micro Electro Mechanical Systems 5009 Quarzo Photomask Sustrato 5×5×0.09 pulgadas

Sustrato de cuarzo Photomask de 5 pulgadas × 5 pulgadas × 0,09 pulgadas para uso con chips Aplicaciones Los campos del proceso de fo
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6 × 6 × 0,12 pulgadas MEMS Chrome Photomask Substrato Recubrimiento fotorresistente

Sustrato de cuarzo Photomask de 6 pulgadas × 6 pulgadas × 0,12 pulgadas para uso con chips Aplicaciones Los campos del proceso de fo
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6 × 6 × 0,25 pulgadas de sustrato de cuarzo Photomask para el proceso de fotolitografía

Sustrato de cuarzo Photomask de 6 pulgadas × 6 pulgadas × 0,25 pulgadas para uso con chips Aplicaciones Los campos del proceso de fo
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Sustrato Photomask de cuarzo de 127 × 127 mm para uso en pantallas planas

substrato del Photomask del cuarzo del × 127m m de 127m m para el uso de FPD Usos Los campos del proceso de la fotolitografía, tales como fa
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Sustrato de fotomáscara FPD de 152 × 152 mm para fabricación micro nano

substrato del Photomask del cuarzo del × 152m m de 152m m para el uso de FPD Usos Los campos del proceso de la fotolitografía, tales como fa
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Sustrato de Photomask de cuarzo de 350 × 300 mm para la fabricación de chips de circuitos integrados

substrato del Photomask del cuarzo del × 300m m de 350m m para el uso de FPD Usos Los campos del proceso de la fotolitografía, tales como fa
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Pulido Pulido Cromado 5280 Cuarzo Photomask Sustrato 800mm×520mm

substrato del Photomask del cuarzo de 800mm×520m m para el uso de FPD Usos Los campos del proceso de la fotolitografía, tales como fabricaci
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Sustrato pulido de Photomask del cuarzo para el uso de FPD y del microprocesador

Substrato del Photomask del cuarzo para FPD y Chip Use Área de aplicación Los campos del proceso de la fotolitografía, tales como fabricació
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