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Grupo de ZEIT

Ciudad:chengdu

Provincia / Estado:sichuan

País/Región:china

Persona de contacto:MsTyra

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Sustrato de fotomáscara FPD de 152 × 152 mm para fabricación micro nano

Preguntar último precio

Número de modelo :6 pulgadas

Lugar de origen :Chengdu, P. R. CHINA

Cantidad mínima de pedido :PC 1

Términos de pago :T/T

Capacidad de suministro :Caso por caso

El tiempo de entrega :Caso por caso

detalles del empaque :caja de madera

Material :Cuarzo

CONDICIONES DE ENVÍO :FEDEX, DHL, EMS, TNT, etc.

Modelo :6 pulgadas

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substrato del Photomask del cuarzo del × 152m m de 152m m para el uso de FPD

Usos

Los campos del proceso de la fotolitografía, tales como fabricación del microprocesador del circuito integrado, FPD (pantalla plana),

MEMS (electro sistemas mecánicos micro), etc.

Principio de funcionamiento

La máscara es una máscara principal gráfica de uso general en fotolitografía de la fabricación micro-nana. La estructura gráfica

es formado en un substrato transparente por un photomask opaco, y entonces la información gráfica se transfiere a

substrato del producto con un proceso de la exposición.

Características

Substrato del Photomask para el uso de FPD

Modelo/material	Tamaño	Capacidad de proceso
6 pulgadas/cuarzo	× 152m m de 152m m	Pulido, puliendo, galjanoplastia de Chrome, pegando

Flujo de proceso

Detección de las materias primas del →;

Pulido áspero del →;

Limpieza de la máscara del →;

Inspección del funcionamiento de las materias primas del →;

El → plateó por el cromo;

Prueba de funcionamiento de la máscara del →;

Capa de la fotoprotección del →;

Empaquetado del →;

Transporte del →.

Nuestras ventajas

Somos fabricante.

Proceso maduro.

Contestación en el plazo de 24 horas de trabajo.

Nuestra certificación del ISO

Partes de nuestras patentes

Partes de nuestros premios y calificaciones del R&D

Etiquetas de productos:

laser 3d pen

optical plastic photochromic lens

photolithography process

Carro de la investigación 0